| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-14页 |
| 1 绪论 | 第14-50页 |
| ·纳米陶瓷材料概述 | 第14-16页 |
| ·纳米材料概述 | 第14-15页 |
| ·纳米陶瓷材料 | 第15-16页 |
| ·二氧化锆及其增韧陶瓷材料的发展概况 | 第16-27页 |
| ·二氧化锆的相结构及变化特征 | 第16-17页 |
| ·制备纳米二氧化锆粉体的常用方法 | 第17-20页 |
| ·二氧化锆陶瓷 | 第20-24页 |
| ·二氧化锆增韧陶瓷材料 | 第24-27页 |
| ·二氧化锆增韧氧化铝复相陶瓷研究进展 | 第27-30页 |
| ·二氧化锆增韧氧化铝复相陶瓷 | 第27-28页 |
| ·二氧化锆增韧氧化铝复相陶瓷粉体的制备方法 | 第28-29页 |
| ·二氧化锆增韧氧化铝复相陶瓷的应用 | 第29-30页 |
| ·纳米陶瓷表面改性及其摩擦磨损性能研究现状 | 第30-39页 |
| ·纳米陶瓷表面改性的意义 | 第30页 |
| ·陶瓷表面改性的研究现状 | 第30-31页 |
| ·陶瓷材料摩擦磨损性能研究 | 第31-33页 |
| ·陶瓷基材料表面 CNx涂层的制备及其摩擦磨损特性研究现状 | 第33-39页 |
| ·本论文的选题背景、意义、主要内容和创新点 | 第39-43页 |
| ·选题背景 | 第39-40页 |
| ·选题意义 | 第40-41页 |
| ·研究内容 | 第41-42页 |
| ·本课题的创新点 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-50页 |
| 2 二氧化硅修饰的纳米二氧化锆陶瓷材料的制备及结构表征 | 第50-66页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·实验部分 | 第51-53页 |
| ·主要试剂 | 第51-52页 |
| ·仪器表征 | 第52-53页 |
| ·二氧化锆转化率的计算原理 | 第53页 |
| ·SiO_2修饰纳米 ZrO_2微粒的溶胶-凝胶法制备及其结构表征 | 第53-57页 |
| ·二氧化硅修饰的纳米二氧化锆的制备 | 第53-54页 |
| ·纳米二氧化锆的形貌分析 | 第54-55页 |
| ·纳米二氧化锆的热重分析 | 第55-56页 |
| ·纳米二氧化锆的 X 射线衍射（XRD）分析和傅立叶变换红外光谱（FTIR）分析 | 第56页 |
| ·ZrO_2转化率计算及结果分析 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57页 |
| ·醇解法制备片状二氧化硅/二氧化锆陶瓷材料 | 第57-62页 |
| ·醇解法制备纳米 SiO_2/ZrO_2 | 第58-59页 |
| ·纳米二氧化锆的表面形貌分析 | 第59-60页 |
| ·纳米 SiO_2/ZrO_2的 XRD 和 FT-IR 分析 | 第60-61页 |
| ·片状 SiO_2/ZrO_2纳米复合材料的形成机理分析 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 3 ZrO_2/Al_2O_3 纳微复合陶瓷材料的制备与性能研究 | 第66-92页 |
| ·引言 | 第66-67页 |
| ·实验部分 | 第67-70页 |
| ·主要试剂 | 第67-68页 |
| ·仪器表征 | 第68-69页 |
| ·氧化锆/氧化铝复相陶瓷块体的制备工艺 | 第69页 |
| ·陶瓷材料的机械性能评价方式 | 第69-70页 |
| ·氧化锆/氧化铝纳微复合陶瓷粉体的制备与表征 | 第70-81页 |
| ·水溶液中氧化锆/氧化铝纳微复合陶瓷粉体的制备 | 第70-72页 |
| ·醇-水混合溶液中氧化锆/氧化铝纳微复合陶瓷粉体的制备 | 第72页 |
| ·氧化锆/氧化铝复相陶瓷粉体的形貌和结构分析 | 第72-78页 |
| ·氧化锆/氧化铝复相陶瓷粉体表面羟基的测定 | 第78-79页 |
| ·氧化锆/氧化铝复相陶瓷粉体的 XRD 分析 | 第79-80页 |
| ·氧化锆/氧化铝复相陶瓷粉体的粒度测试 | 第80-81页 |
| ·氧化锆/氧化铝纳微复合陶瓷的制备及其结构和性能研究 | 第81-88页 |
| ·氧化锆/氧化铝纳微复相陶瓷块体材料的制备与表面形貌分析 | 第81-85页 |
| ·氧化锆/氧化铝纳微复相陶瓷块体的 XRD 分析 | 第85-86页 |
| ·氧化锆/氧化铝纳微复相陶瓷块体材料的力学性能测试 | 第86-88页 |
| ·本章小结 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-92页 |
| 4 硅基底上碳氮薄膜的制备及其结构和摩擦磨损性能研究 | 第92-114页 |
| ·前言 | 第92-93页 |
| ·实验部分 | 第93-96页 |
| ·化学试剂及基片 | 第93页 |
| ·CNx:H 薄膜的制备 | 第93-94页 |
| ·CNx:H 薄膜的结构表征 | 第94-95页 |
| ·CNx:H 薄膜的摩擦磨损行为评价 | 第95-96页 |
| ·结果和讨论 | 第96-106页 |
| ·CNx:H 薄膜的 AFM 和 XRD 分析 | 第96-97页 |
| ·CNx:H 薄膜的 XPS 分析 | 第97-99页 |
| ·CNx:H 膜拉曼光谱分析 | 第99-100页 |
| ·CNx:H 薄膜的电学特性 | 第100-101页 |
| ·CNx:H 薄膜的 FT-IR 分析 | 第101-102页 |
| ·CNx:H 薄膜的摩擦磨损行为 | 第102-106页 |
| ·纯石墨 C:H 薄膜的结构与摩擦磨损性能 | 第106-109页 |
| ·纯石墨 C:H 薄膜的微观结构 | 第106-108页 |
| ·纯石墨 C:H 薄膜的摩擦磨损性能 | 第108-109页 |
| ·本章小结 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-114页 |
| 5 陶瓷基底上碳氮薄膜的制备及其摩擦磨损性能研究 | 第114-132页 |
| ·前言 | 第114页 |
| ·实验部分 | 第114-116页 |
| ·化学试剂及基片 | 第114-115页 |
| ·CNx:H 薄膜的制备 | 第115页 |
| ·CNx:H 薄膜的结构表征 | 第115-116页 |
| ·CNx:H 薄膜的摩擦磨损行为评价 | 第116页 |
| ·结果和讨论 | 第116-127页 |
| ·CNx:H 薄膜的 AFM 和 XRD 分析 | 第116-117页 |
| ·陶瓷表面的显微结构 | 第117-119页 |
| ·CNx:H 薄膜的 XPS 分析 | 第119-123页 |
| ·陶瓷基底上制备的 CNx:H 薄膜的摩擦磨损行为 | 第123-127页 |
| ·本章小结 | 第127-128页 |
| 参考文献 | 第128-132页 |
| 6 结束语 | 第132-136页 |
| ·主要结论 | 第132-134页 |
| ·研究工作的创新性 | 第134-135页 |
| ·展望 | 第135-136页 |
| 致谢 | 第136-138页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文及申请专利目录 | 第138页 |
