BST非线性铁电薄膜材料研究
| 第一章 绪论 | 第1-21页 |
| ·概述 | 第10-12页 |
| ·BST 薄膜的制备方法 | 第12-15页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第12-13页 |
| ·磁控溅射 | 第13页 |
| ·溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第13-14页 |
| ·金属有机化学气相沉积法(MOCVD) | 第14-15页 |
| ·BST 薄膜的组成、结构与性能 | 第15-18页 |
| ·组成对结构、性能的影响 | 第15-17页 |
| ·热处理对结构、性能的影响 | 第17-18页 |
| ·膜厚对结构、性能的影响 | 第18页 |
| ·BST 薄膜的铁电性能 | 第18-19页 |
| ·电滞回线 | 第18-19页 |
| ·介电非线性特性 | 第19页 |
| ·本论文的研究背景及内容 | 第19-21页 |
| 第二章 BST 陶瓷材料研究 | 第21-33页 |
| ·实验过程 | 第21-23页 |
| ·制备工艺 | 第21页 |
| ·微结构分析 | 第21-22页 |
| ·性能表征 | 第22-23页 |
| ·晶体结构研究结果 | 第23-24页 |
| ·介电性能研究结果 | 第24-30页 |
| ·温度特性 | 第24-26页 |
| ·频率特性 | 第26-27页 |
| ·电滞回线 | 第27-30页 |
| ·陶瓷靶材研究结果 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 BST 薄膜材料制备工艺研究 | 第33-49页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第33-35页 |
| ·磁控溅射 | 第33-34页 |
| ·射频磁控溅射 | 第34-35页 |
| ·多工位平面磁控溅射镀膜装置 | 第35-38页 |
| ·结构 | 第35-36页 |
| ·工作原理 | 第36-37页 |
| ·特点 | 第37-38页 |
| ·实验过程 | 第38-41页 |
| ·薄膜制备 | 第38-39页 |
| ·分析与表征 | 第39-40页 |
| ·性能测试 | 第40-41页 |
| ·制备工艺研究结果 | 第41-48页 |
| ·成膜时间 | 第41-42页 |
| ·衬底温度 | 第42-43页 |
| ·溅射功率 | 第43-45页 |
| ·氧氩比 | 第45-46页 |
| ·溅射气压 | 第46-47页 |
| ·靶基距 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 BST 薄膜材料微结构研究 | 第49-58页 |
| ·成分研究 | 第49-53页 |
| ·原理、方法 | 第49-50页 |
| ·实验过程 | 第50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-53页 |
| ·晶体结构(晶化)研究 | 第53-55页 |
| ·电畴研究 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 BST 薄膜材料电压非线性尺度效应研究 | 第58-72页 |
| ·铁电性能研究 | 第58-60页 |
| ·电滞回线 | 第58-59页 |
| ·介电偏压特性曲线 | 第59-60页 |
| ·不同晶粒尺寸的BST 薄膜的铁电性能 | 第60-66页 |
| ·介电偏压特性曲线 | 第61-64页 |
| ·电滞回线 | 第64-66页 |
| ·不同膜厚BST 薄膜的铁电性能 | 第66-71页 |
| ·介电偏压特性曲线 | 第67-69页 |
| ·电滞回线 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 已发表和已录用的论文 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
