| 第一章 绪论 | 第1-26页 |
| ·膜的概述 | 第10页 |
| ·无机膜的特点和发展现状 | 第10-13页 |
| ·无机膜的特点与类型 | 第10-12页 |
| ·无机膜的特点 | 第10-11页 |
| ·无机膜的类型 | 第11-12页 |
| ·无机膜的发展及应用 | 第12-13页 |
| ·无机膜的发展概况 | 第12页 |
| ·无机膜的应用领域 | 第12-13页 |
| ·氧化锆膜的特点和应用 | 第13-17页 |
| ·氧化锆的晶体结构 | 第13-14页 |
| ·氧化锆膜的特点 | 第14-16页 |
| ·氧化锆膜的优异性能 | 第14页 |
| ·氧化锆的相变问题 | 第14-16页 |
| ·氧化锆多孔膜的应用 | 第16-17页 |
| ·氧化锆多孔膜在环保领域的应用 | 第16-17页 |
| ·氧化锆多孔膜在食品工业中的应用 | 第17页 |
| ·氧化锆多孔膜在生化与制药工业中的应用 | 第17页 |
| ·氧化锆多孔膜的制备 | 第17-25页 |
| ·制备方法简介 | 第17-19页 |
| ·悬浮粒子烧结法 | 第17-18页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第18页 |
| ·sol-gel 法 | 第18-19页 |
| ·sol-gel 法的工艺条件对制备氧化锆多孔膜的影响 | 第19-21页 |
| ·溶胶的制备 | 第19-20页 |
| ·溶胶向凝胶的转变-干燥过程 | 第20-21页 |
| ·凝胶层向氧化锆膜的转化-热处理过程 | 第21页 |
| ·sol-gel 法制备氧化锆多孔膜的进展 | 第21-23页 |
| ·sol-gel 法制备氧化锆多孔膜存在的问题 | 第23-25页 |
| ·锆溶胶及涂膜液的制备 | 第23页 |
| ·与载体结合问题 | 第23-24页 |
| ·氧化锆的相变问题 | 第24-25页 |
| ·结论 | 第25页 |
| ·本课题的研究内容及意义 | 第25-26页 |
| 第二章 α-A1_2O_3载体的制备及表征 | 第26-35页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第26-28页 |
| ·实验试剂 | 第26-27页 |
| ·测试仪器 | 第27-28页 |
| ·实验部分 | 第28-32页 |
| ·α-A1_2O_3 载体的制备 | 第28页 |
| ·载体表面的改性 | 第28页 |
| ·分析方法及仪器简介 | 第28-31页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第29-31页 |
| ·载体的表征方法 | 第31-32页 |
| ·SEM 分析 | 第31页 |
| ·压汞实验 | 第31-32页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-34页 |
| ·载体的结构和性质 | 第32-33页 |
| ·载体的预处理结果 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 氧化锆复合膜的制备与表征 | 第35-53页 |
| ·实验药品及仪器 | 第35页 |
| ·实验部分 | 第35-42页 |
| ·涂膜液的制备 | 第35-36页 |
| ·制备含锆溶胶方案的选择 | 第35页 |
| ·硅胶的制备 | 第35页 |
| ·涂膜液的制备 | 第35-36页 |
| ·氧化锆复合膜的制备 | 第36页 |
| ·氧化锆复合膜的涂覆 | 第36页 |
| ·氧化锆复合膜的干燥 | 第36页 |
| ·氧化锆复合膜的焙烧 | 第36页 |
| ·分析方法及仪器简介 | 第36-40页 |
| ·原子力显微镜的结构及原理 | 第36-37页 |
| ·TG-DTA 分析 | 第37-39页 |
| ·透射电子显微镜 | 第39-40页 |
| ·溶胶及氧化锆复合膜的表征方法 | 第40-42页 |
| ·TEM 分析 | 第40页 |
| ·SEM 分析 | 第40页 |
| ·TG-DTA 分析 | 第40页 |
| ·BET 分析 | 第40-41页 |
| ·渗透实验 | 第41页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第41-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-52页 |
| ·含锆溶胶的制备与表征 | 第42-43页 |
| ·制备含锆溶胶方案的选择 | 第42页 |
| ·前驱体对草酸氧锆溶胶性能的影响 | 第42-43页 |
| ·涂膜液的制备 | 第43-44页 |
| ·氧化锆复合膜制备条件的考察 | 第44-49页 |
| ·涂膜时间对氧化锆复合膜厚度的影响 | 第44-45页 |
| ·膜的干燥条件对氧化锆复合膜的影响 | 第45-46页 |
| ·TG-DTA 分析 | 第46-47页 |
| ·焙烧过程中升温速率对复合膜的影响 | 第47-48页 |
| ·SiO_2 加入量对氧化锆复合膜性能的影响 | 第48-49页 |
| ·氧化锆复合膜的表征 | 第49-52页 |
| ·氧化锆复合膜的孔径分布 | 第49-50页 |
| ·气体渗透实验 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 氧化锆复合膜的高温稳定性的研究 | 第53-64页 |
| ·焙烧温度对氧化锆复合膜的影响 | 第54-61页 |
| ·XRD 分析 | 第54-56页 |
| ·SEM 和AFM 分析 | 第56-59页 |
| ·BET 分析 | 第59-60页 |
| ·渗透实验 | 第60-61页 |
| ·焙烧时间对氧化锆复合膜的影响 | 第61-63页 |
| ·不同焙烧时间的氧化锆复合膜的XRD 分析 | 第61-62页 |
| ·不同焙烧时间的氧化锆复合膜的BET 分析 | 第62页 |
| ·不同焙烧时间的氧化锆复合膜的渗透实验 | 第62-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 发表论文与科研情况 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |