第一章 概述 | 第1-12页 |
1.1 化学镀技术的发展概况及趋势 | 第7-8页 |
1.1.1 化学镀技术的发展概况及特点 | 第7-8页 |
1.1.2 化学镀技术在非金属上的应用 | 第8页 |
1.2 红外陶瓷发展概况及趋势 | 第8-10页 |
1.2.1 红外线波段的划分 | 第8-9页 |
1.2.2 红外材料在红外伪装隐身技术上的应用及发展趋势 | 第9-10页 |
1.2.3 低发射率材料的制备方法 | 第10页 |
1.3 课题研究的目的意义 | 第10-12页 |
第二章 化学镀镍溶液 | 第12-23页 |
2.1 化学镀镍溶液分类 | 第12页 |
2.2 化学镀镍溶液组成及其作用 | 第12-19页 |
2.2.1 主盐 | 第12-13页 |
2.2.2 还原剂 | 第13-14页 |
2.2.3 络合剂 | 第14-17页 |
2.2.4 PH值调整剂和缓冲剂 | 第17-18页 |
2.2.5 稳定剂 | 第18-19页 |
2.2.6 其它组分 | 第19页 |
2.3 化学镀镍溶液 | 第19-20页 |
2.4 化学镀镍溶液稳定性测试 | 第20页 |
2.5 化学镀镍反应机理 | 第20-23页 |
第三章 羰基铁粉体化学镀镍工艺 | 第23-35页 |
3.1 羰基铁粉体的性质 | 第23页 |
3.2 化学镀镍溶液制备 | 第23-24页 |
3.2.1 制备方法及原料的选择 | 第23-24页 |
3.2.2 溶液的制备 | 第24页 |
3.2.3 羰基铁粉体的化学镀镍 | 第24页 |
3.3 样品的组成、微观结构及性能测试 | 第24-28页 |
3.3.1 镀层组成分析 | 第24-26页 |
3.3.2 样品的形貌分析 | 第26-27页 |
3.3.3 包覆层厚度测试 | 第27页 |
3.3.4 红外发射率测试 | 第27-28页 |
3.3.5 雷达吸波性能测试 | 第28页 |
3.4 化学镀镍影响因素分析 | 第28-35页 |
3.4.1 NiSO_4·6H_2O浓度的影响 | 第28-30页 |
3.4.2 NaH_2PO_2·H_2O浓度的影响 | 第30页 |
3.4.3 PH值的影响 | 第30页 |
3.4.4 温度的影响 | 第30-31页 |
3.5.1 化学组成与红外发射率 | 第31-32页 |
3.5.2 颗粒尺寸与红外发射率 | 第32页 |
3.5.3 光学与电学参数与红外发射率 | 第32-33页 |
3.5.4 表面状态与红外发射率 | 第33-34页 |
3.6 小结 | 第34-35页 |
第四章 陶瓷材料粉体的化学镀镍 | 第35-44页 |
4.1 陶瓷粉体的预处理 | 第35-36页 |
4.1.1 预处理液的制备 | 第35-36页 |
4.1.2 陶瓷粉体的预处理过程 | 第36页 |
4.2 化学镀镍溶液 | 第36-37页 |
4.3 陶瓷粉体的化学镀镍 | 第37页 |
4.4 影响沉积速度的因素 | 第37-39页 |
4.4.1 搅拌速度对反应速度的影响 | 第37-38页 |
4.4.2 稳定剂加入量对反应速度的影响 | 第38-39页 |
4.4.3 络合剂与沉积速度的关系 | 第39页 |
4.5 样品的性能测试 | 第39-42页 |
4.5.1 空心微珠SEM分析 | 第39-40页 |
4.5.2 云母的SEM结构分析 | 第40-41页 |
4.5.3 样品的红外发射率测试 | 第41页 |
4.5.4 样品的雷达吸波性能测试 | 第41-42页 |
4.6 结果讨论 | 第42-43页 |
4.6.1 颗粒尺寸与红外发射率 | 第42页 |
4.6.2 表面组成与红外发射率 | 第42-43页 |
4.7 小结 | 第43-44页 |
第五章 结论 | 第44-46页 |
参考文献 | 第46-49页 |
致谢 | 第49-50页 |
攻读硕士研究生期间已发表的论文 | 第50页 |