| 第一章 绪论 | 第1-11页 |
| §1．1 工程背景及发展概况 | 第7-8页 |
| §1．2 课题研究的学术思想及本文的主要工作 | 第8-11页 |
| 第二章 微粒场基本全息术理论 | 第11-38页 |
| §2．1 微粒场同轴基本全息术理论 | 第11-16页 |
| 2．1．1 同轴全息记录光路的一般模型 | 第11页 |
| 2．1．2 同轴全息图的形成 | 第11-13页 |
| 2．1．3 同轴全息图的再现 | 第13-16页 |
| §2．2 微粒场离轴基本全息术理论 | 第16-20页 |
| 2．2．1 离轴全息记录光路的一般模型 | 第16页 |
| 2．2．2 离轴全息图的形成 | 第16-18页 |
| 2．2．3 离轴全息图的再现 | 第18-20页 |
| §2．3 微粒场基本全息术记录过程中的基本问题讨论 | 第20-31页 |
| 2．3．1 全息图的有限孔径效应及象差 | 第20页 |
| 2．3．2 全息记录介质的分辨率要求 | 第20-23页 |
| 一 同轴全息对记录介质的分辨率要求 | 第20-21页 |
| 二 离轴全息对记录介质的分辨率要求 | 第21-23页 |
| 2．3．3 全息图的条纹对比度 | 第23-24页 |
| 一 同轴全息图的条纹对比度 | 第23页 |
| 二 离轴全息图的条纹对比度 | 第23-24页 |
| 2．3．4 全息图的可记录场深 | 第24-28页 |
| 一 限制全息图的可记录场深的物理原因 | 第24页 |
| 二 同轴全息图的可记录场深 | 第24-27页 |
| 三 离轴全息图的可记录场深 | 第27-28页 |
| 2．3．5 允许的最大位移 | 第28-31页 |
| 一 同轴全息允许的最大位移 | 第28-30页 |
| 二 离轴全息允许的最大位移 | 第30-31页 |
| §2．4 微粒场基本全息术再现过程中的基本问题讨论 | 第31-33页 |
| 2．4．1 再现象的放大率 | 第31-32页 |
| 一 同轴全息再现实象的放大率 | 第31-32页 |
| 二 离轴全息再现实象的放大率 | 第32页 |
| 2．4．2 再现象的对比度 | 第32-33页 |
| 一 同轴全息再现实象的对比度 | 第32-33页 |
| 二 离轴全息再现实象的对比度 | 第33页 |
| §2．5 小结 | 第33-38页 |
| 第三章 微粒场滤波全息术理论 | 第38-62页 |
| §3．1 微粒场同轴滤波全息术理论 | 第38-48页 |
| 3．1．1 同轴滤波全息图的形成 | 第38-42页 |
| 3．1．2 同轴滤波全息图的再现 | 第42-48页 |
| §3．2 微粒场离轴滤波全息术理论 | 第48-51页 |
| 3．2．1 离轴滤波全息图的形成 | 第48页 |
| 3．2．2 离轴滤波全息图的再现 | 第48-51页 |
| §3．3 微粒场滤波全息术记录过程中的基本问题讨论 | 第51-58页 |
| 3．3．1 全息记录介质的分辨率要求 | 第51-52页 |
| 一 同轴滤波全息对记录介质的分辨率要求 | 第51-52页 |
| 二 离轴滤波全息对记录介质的分辨率要求 | 第52页 |
| 3．3．2 滤波全息图的条纹对比度 | 第52-54页 |
| 一 同轴滤波全息图的条纹对比度 | 第52-53页 |
| 二 离轴滤波全息图的条纹对比度 | 第53-54页 |
| 3．3．3 滤波全息图的可记录场深 | 第54-55页 |
| 一 同轴滤波全息图的可记录场深 | 第54-55页 |
| 二 离轴滤波全息图的可记录场深 | 第55页 |
| 3．3．4 允许的最大位移 | 第55-58页 |
| 一 同轴滤波全息允许的最大位移 | 第55-57页 |
| 二 离轴滤波全息允许的最大位移 | 第57-58页 |
| §3．4 微粒场滤波全息术再现过程中的基本问题讨论 | 第58-60页 |
| 3．4．1 再现象的放大率 | 第58页 |
| 一 同轴滤波全息再现象的放大率 | 第58页 |
| 二 离轴滤波全息再现象的放大率 | 第58页 |
| 3．4．2 再现象的对比度 | 第58-60页 |
| 一 同轴滤波全息再现象的对比度 | 第59页 |
| 二 离轴滤波全息再现象的对比度 | 第59-60页 |
| §3．5 滤波器参数选择 | 第60页 |
| §3．6 小结 | 第60-62页 |
| 第四章 微粒场相移全息术理论 | 第62-69页 |
| §4．1 微粒场离轴相移全息术理论 | 第62-65页 |
| 4．1．1 离轴相移全息图的形成 | 第62-63页 |
| 4．1．2 离轴相移全息图的再现 | 第63-65页 |
| §4．2 微粒场相移全息术记录过程中的基本问题讨论 | 第65-67页 |
| 4．2．1 全息记录介质的分辨率要求 | 第65页 |
| 4．2．2 离轴相移全息图的条纹对比度 | 第65-66页 |
| 4．2．3 育轴相移全息图的可记录场深 | 第66-67页 |
| 4．2．4 允许的最大位移 | 第67页 |
| §4．3 微粒场相移全息术再现过程中的基本问题讨论 | 第67页 |
| 4．3．1 离轴相移全息再现象的放大率 | 第67页 |
| 4．3．2 离轴相移全息再现象的对比度 | 第67页 |
| §4．4 小结 | 第67-69页 |
| 第五章 微粒场双曝光全息术理论 | 第69-82页 |
| §5．1 微粒场双曝光基本全息术理论 | 第69-73页 |
| 5．1．1 同轴双曝光基本全息术理论 | 第69-72页 |
| 一 同轴双曝光全息图的形成 | 第69-70页 |
| 二 同轴双曝光全息图的再现 | 第70-72页 |
| 5．1．2 离轴双曝光基本全息术理论 | 第72-73页 |
| 一 离轴双曝光全息图的形成 | 第72页 |
| 二 离轴双曝光全息图的再现 | 第72-73页 |
| §3．2 微粒场双曝光滤波全息术理论 | 第73-78页 |
| 3．2．1 同轴双曝光滤波全息术理论 | 第73-76页 |
| 一 同轴双曝光滤波全息图的形成 | 第73-75页 |
| 二 同轴双曝光滤波全息图的再现 | 第75-76页 |
| 5．2．2 离轴双曝光滤波全息术理论 | 第76-78页 |
| 一 离轴双曝光滤波全息图的形成 | 第76-77页 |
| 二 离轴双曝光滤波全息图的再现 | 第77-78页 |
| §5．3 微粒场双曝光相移全息术理论 | 第78-80页 |
| 5．3．1 离轴双曝光相移全息图的形成 | 第78页 |
| 5．3．2 离轴双曝光相移全息图的再现 | 第78-79页 |
| 5．3．3 双曝光相移全息术对相移器的要求及应用前景 | 第79-80页 |
| §5．4 小结 | 第80-82页 |
| 第六章 固体火箭推进剂燃烧的实验研究 | 第82-98页 |
| §6．1 问题的背景与全息记录方法的选择 | 第82页 |
| §6．2 全息记录系统设计 | 第82-84页 |
| 6．2．1 系统设计中的问题考虑 | 第82-83页 |
| 6．2．2 系统参数估计 | 第83-84页 |
| 6．2．3 系统的全息分辨率 | 第84页 |
| §6．3 固体推进剂燃烧的全息实验研究 | 第84-86页 |
| 6．3．1 实验设备简介 | 第84-85页 |
| 6．3．2 固体推进剂燃烧表面区的实验研究 | 第85-86页 |
| 6．3．3 固体推进剂燃烧微粒场的实验研究 | 第86页 |
| §6．4 固体推进剂燃烧微粒场全息图的分析 | 第86-87页 |
| §6．5 小结 | 第87-98页 |
| 第七章 微粒全息图自动分析系统的开发 | 第98-117页 |
| §7．1 系统硬件结构 | 第98页 |
| §7．2 微粒图象的自动分析 | 第98-104页 |
| 7．2．1 微粒图象的平滑滤波 | 第98-99页 |
| 7．2．2 两级阀值的自动设置和两步二值化过程 | 第99-101页 |
| 7．2．3 微粒的自动判焦 | 第101页 |
| 7．2．4 微粒参数测量 | 第101-102页 |
| 7．2．5 微粒参数分布统计 | 第102-103页 |
| 7．2．6 微粒速度测量 | 第103-104页 |
| §7．3 系统软件简介 | 第104页 |
| §7．4 系统标定 | 第104-105页 |
| §7．5 自动分析系统的测试 | 第105页 |
| §7．6 固体推进剂燃烧微粒场全息图的自动分析 | 第105-106页 |
| §7．7 小结 | 第106-117页 |
| 第八章 总结 | 第117-118页 |
| 致谢 | 第118-119页 |
| 参考文献 | 第119-124页 |
