| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-17页 |
| ·研究背景 | 第8-15页 |
| ·光子学与光子技术 | 第8-12页 |
| ·光子薄膜材料是光子技术发展的基础和先导 | 第12-13页 |
| ·光子薄膜材料的基础——干涉原理 | 第13-15页 |
| ·本论文研究的目的和意义 | 第15-16页 |
| ·参考文献 | 第16-17页 |
| 第二章 光子薄膜材料生长的实验和特性检测方法 | 第17-42页 |
| ·等离子体辅助电子束蒸发薄膜生长系统的结构原理 | 第17-22页 |
| ·薄膜参数的表征方法 | 第22-28页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第22-25页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第25-28页 |
| ·薄膜干涉的测量方法——椭圆偏振光谱测量术 | 第28-33页 |
| ·椭圆偏振光谱学测量原理 | 第28-30页 |
| ·RAP型椭圆偏振光谱仪 | 第30-33页 |
| ·SiO_2光子薄膜制备的最佳工艺参数 | 第33-40页 |
| ·参考文献 | 第40-42页 |
| 第三章 经典理论——光波在薄膜结构中传播的干涉规律 | 第42-53页 |
| ·光波在单层膜结构中传播的干涉规律 | 第42-47页 |
| ·光波在单层膜结构中多重反射的干涉规律 | 第45-47页 |
| ·光波在单层膜结构中多重透射的干涉规律 | 第47页 |
| ·光波在多层膜结构中传播的干涉规律 | 第47-52页 |
| ·光波在多层膜结构中多重反射的干涉规律 | 第50页 |
| ·光波在多层膜结构中多重透射的干涉规律 | 第50-52页 |
| ·参考文献 | 第52-53页 |
| 第四章 光频电磁波在单层薄膜结构中传播的空间干涉现象的研究和应用 | 第53-72页 |
| ·非正常的实验结果——被忽略的空间效应 | 第54-64页 |
| ·新现象的理论解释——光子在单层薄膜结构中传播的空间干涉规律 | 第64-66页 |
| ·光子在单层膜结构中多重反射的空间干涉规律 | 第64-66页 |
| ·光子在单层膜结构中多重透射的空间干涉规律 | 第66页 |
| ·新模型的应用——椭偏学测量模型的修正 | 第66-68页 |
| ·实验结果与讨论 | 第68-70页 |
| ·参考文献 | 第70-72页 |
| 第五章 总结与展望 | 第72-75页 |
| ·论文工作总结 | 第72-74页 |
| ·论文工作展望 | 第74-75页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
