| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·液体磁性磨具光整加工的研究背景 | 第10-11页 |
| ·目前光整加工方法的局限性 | 第10页 |
| ·液体磁性磨具光整加工技术的提出 | 第10-11页 |
| ·液体磁性磨具光整加工的研究现状 | 第11-13页 |
| ·本文的研究目的、意义和内容 | 第13-16页 |
| ·本文的研究目的和意义 | 第13-14页 |
| ·本文的研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 液体磁性磨具及其光整加工 | 第16-30页 |
| ·液体磁性磨具概述 | 第16-22页 |
| ·液体磁性磨具的概念 | 第16页 |
| ·液体磁性磨具的组成 | 第16-18页 |
| ·液体磁性磨具的微观流变机理 | 第18-19页 |
| ·液体磁性磨具的物理性质 | 第19-22页 |
| ·液体磁性磨具光整加工概述 | 第22-28页 |
| ·液体磁性磨具光整加工的概念 | 第22-23页 |
| ·液体磁性磨具光整加工机理 | 第23-24页 |
| ·液体磁性磨具光整加工的材料去除模型 | 第24-25页 |
| ·液体磁性磨具光整加工的实验装置 | 第25-26页 |
| ·液体磁性磨具光整加工的工艺参数 | 第26-28页 |
| ·小结 | 第28-30页 |
| 第三章 液体磁性磨具的剪切应力模型研究 | 第30-44页 |
| ·液体磁性磨具光整加工的微观剪切应力模型研究 | 第30-37页 |
| ·单链模型 | 第30-35页 |
| ·多链模型 | 第35-36页 |
| ·BCT结构模型 | 第36-37页 |
| ·液体磁性磨具光整加工的宏观剪切应力模型研究 | 第37-42页 |
| ·Bingham模型 | 第37-38页 |
| ·广义Bingham模型 | 第38-39页 |
| ·Herschel-Bulkley模型 | 第39页 |
| ·力磁耦合模型 | 第39-40页 |
| ·双塑性模型 | 第40-41页 |
| ·双粘性流体模型 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 第四章 液体磁性磨具光整加工的流体动力学模型研究 | 第44-60页 |
| ·流体力学的基本知识 | 第44-48页 |
| ·牛顿流体与非牛顿流体 | 第44-45页 |
| ·非牛顿流体的某些流动现象 | 第45-46页 |
| ·流体运动状态的判断方法 | 第46-47页 |
| ·流体运动的基本方程组 | 第47-48页 |
| ·液体磁性磨具的连续介质模型 | 第48页 |
| ·液体磁性磨具的流动状态的确定 | 第48-52页 |
| ·液体磁性磨具光整加工的流体动力学模型的建立 | 第52-58页 |
| ·液体磁性磨具的运动学特性 | 第52-53页 |
| ·液体磁性磨具的应力特性 | 第53-55页 |
| ·液体磁性磨具的数学模型 | 第55-56页 |
| ·液体磁性磨具的速度分布 | 第56-58页 |
| ·液体磁性磨具的剪切应力分布 | 第58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 第五章 基于ANSYS的液体磁性磨具光整加工流体动力学模型的分析与研究 | 第60-78页 |
| ·ANSYS/FLOTRAN模块简介 | 第60-63页 |
| ·ANSYS/FLOTRAN流场分析功能 | 第61页 |
| ·ANSYS/FLOTRAN的典型求解过程 | 第61-63页 |
| ·几何体模型 | 第63-64页 |
| ·分析区域的确定及有限元模型建立 | 第64-66页 |
| ·分析区域的确定 | 第64-65页 |
| ·有限元模型的建立 | 第65-66页 |
| ·基于牛顿流体的数值模拟 | 第66-69页 |
| ·物性参数 | 第67页 |
| ·边界条件 | 第67页 |
| ·液体磁性磨具的剪切应力分布 | 第67-69页 |
| ·基于非牛顿流体的数值模拟 | 第69-75页 |
| ·物性参数 | 第69页 |
| ·边界条件 | 第69-70页 |
| ·液体磁性磨具的速度场分布 | 第70-73页 |
| ·液体磁性磨具的剪切应力分布 | 第73-75页 |
| ·分析结果的比较与研究 | 第75页 |
| ·小结 | 第75-78页 |
| 第六章 结论和展望 | 第78-80页 |
| ·全文结论 | 第78-79页 |
| ·研究展望 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第85页 |