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Bi系Co基氧化物热电陶瓷及薄膜的制备与性能研究

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
引言第10-11页
第一章 综述第11-32页
   ·热电材料概述第11-13页
     ·材料的热电效应第11-12页
     ·热电材料的应用第12-13页
   ·热电材料的分类第13-20页
     ·金属合金型热电材料第13-15页
     ·Co基氧化物热电材料第15-19页
     ·非Co基氧化物热电材料第19-20页
   ·热电材料的研究现状与最新进展第20-23页
     ·热电材料的研究现状第20页
     ·热电材料的最新研究方向第20-23页
   ·热电材料的性能指标与提高途径第23-25页
     ·热电材料的性能指标第23页
     ·提高材料热电性能的途径第23-25页
   ·热电陶瓷的制备方法第25-27页
     ·固相反应法第25-26页
     ·放电等离子体烧结第26页
     ·熔体生长法第26-27页
   ·热电薄膜的制备方法第27-30页
     ·物理方法第27-29页
     ·化学方法第29-30页
   ·论文的研究意义与内容第30-32页
第二章 Bi_2Sr_2Co_2O_y热电陶瓷的制备与表征第32-37页
   ·热电陶瓷的制备第32-33页
     ·实验原料第32页
     ·实验设备第32页
     ·检测设备第32页
     ·实验工艺流程第32-33页
     ·Bi_2Sr_2Co_2O_y(Bi-2202)烧结工艺第33页
   ·结果分析与讨论第33-36页
     ·Bi-2202陶瓷XRD图谱分析第33-34页
     ·Bi-2202陶瓷金相照片分析第34-35页
     ·Bi-2202陶瓷SEM照片分析第35-36页
     ·Bi-2202陶瓷电学性能分析第36页
 本章小结第36-37页
第三章 Bi_2Sr_2Co_2O_y热电薄膜的制备与表征第37-48页
   ·紫外脉冲激光沉积(PLD)技术原理第37-38页
   ·衬底选择与衬底清洗第38页
   ·镀膜工艺流程第38-39页
   ·PLD制备Bi-2202薄膜第39-46页
     ·原位退火工艺第40-42页
     ·后退火工艺第42-45页
     ·无退火工艺第45-46页
   ·Bi-2202薄膜电学性能测试第46-47页
   ·Bi-2202薄膜SEM照片分析第47页
 本章小结第47-48页
第四章 倾斜衬底上生长的薄膜激光感生热电电压效应研究第48-66页
   ·激光感生热电电压(LITV)效应的发现及其原理第48-52页
     ·激光感生热电电压(LITV)效应的发现第48-49页
     ·激光感生热电电压(LITV)效应的原理第49-52页
   ·Bi-2202薄膜激光感生热电电压(LITV)信号第52-65页
     ·生长在15°倾斜衬底上的薄膜的LITV信号第52-57页
     ·生长在10°倾斜衬底上的薄膜的LITV信号第57-60页
     ·不同沉积时间对激光感生电压的影响第60-63页
     ·衬底的斜切角度对激光感生电压的影响第63-65页
 本章小结第65-66页
第五章 结论第66-67页
致谢第67-68页
参考文献第68-74页
附录A 攻读硕士学位期间发表的文章第74页

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