摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
引言 | 第10-11页 |
第一章 综述 | 第11-32页 |
·热电材料概述 | 第11-13页 |
·材料的热电效应 | 第11-12页 |
·热电材料的应用 | 第12-13页 |
·热电材料的分类 | 第13-20页 |
·金属合金型热电材料 | 第13-15页 |
·Co基氧化物热电材料 | 第15-19页 |
·非Co基氧化物热电材料 | 第19-20页 |
·热电材料的研究现状与最新进展 | 第20-23页 |
·热电材料的研究现状 | 第20页 |
·热电材料的最新研究方向 | 第20-23页 |
·热电材料的性能指标与提高途径 | 第23-25页 |
·热电材料的性能指标 | 第23页 |
·提高材料热电性能的途径 | 第23-25页 |
·热电陶瓷的制备方法 | 第25-27页 |
·固相反应法 | 第25-26页 |
·放电等离子体烧结 | 第26页 |
·熔体生长法 | 第26-27页 |
·热电薄膜的制备方法 | 第27-30页 |
·物理方法 | 第27-29页 |
·化学方法 | 第29-30页 |
·论文的研究意义与内容 | 第30-32页 |
第二章 Bi_2Sr_2Co_2O_y热电陶瓷的制备与表征 | 第32-37页 |
·热电陶瓷的制备 | 第32-33页 |
·实验原料 | 第32页 |
·实验设备 | 第32页 |
·检测设备 | 第32页 |
·实验工艺流程 | 第32-33页 |
·Bi_2Sr_2Co_2O_y(Bi-2202)烧结工艺 | 第33页 |
·结果分析与讨论 | 第33-36页 |
·Bi-2202陶瓷XRD图谱分析 | 第33-34页 |
·Bi-2202陶瓷金相照片分析 | 第34-35页 |
·Bi-2202陶瓷SEM照片分析 | 第35-36页 |
·Bi-2202陶瓷电学性能分析 | 第36页 |
本章小结 | 第36-37页 |
第三章 Bi_2Sr_2Co_2O_y热电薄膜的制备与表征 | 第37-48页 |
·紫外脉冲激光沉积(PLD)技术原理 | 第37-38页 |
·衬底选择与衬底清洗 | 第38页 |
·镀膜工艺流程 | 第38-39页 |
·PLD制备Bi-2202薄膜 | 第39-46页 |
·原位退火工艺 | 第40-42页 |
·后退火工艺 | 第42-45页 |
·无退火工艺 | 第45-46页 |
·Bi-2202薄膜电学性能测试 | 第46-47页 |
·Bi-2202薄膜SEM照片分析 | 第47页 |
本章小结 | 第47-48页 |
第四章 倾斜衬底上生长的薄膜激光感生热电电压效应研究 | 第48-66页 |
·激光感生热电电压(LITV)效应的发现及其原理 | 第48-52页 |
·激光感生热电电压(LITV)效应的发现 | 第48-49页 |
·激光感生热电电压(LITV)效应的原理 | 第49-52页 |
·Bi-2202薄膜激光感生热电电压(LITV)信号 | 第52-65页 |
·生长在15°倾斜衬底上的薄膜的LITV信号 | 第52-57页 |
·生长在10°倾斜衬底上的薄膜的LITV信号 | 第57-60页 |
·不同沉积时间对激光感生电压的影响 | 第60-63页 |
·衬底的斜切角度对激光感生电压的影响 | 第63-65页 |
本章小结 | 第65-66页 |
第五章 结论 | 第66-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-74页 |
附录A 攻读硕士学位期间发表的文章 | 第74页 |