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U型坩埚上升法生长碘化铅单晶体

摘要第1-3页
Abstract第3-9页
1 绪论第9-28页
   ·半导体材料概述第9-11页
   ·化合物半导体核辐射探测器概况第11-16页
   ·性能优异的PbI_2晶体第16-19页
   ·PbI_2晶体生长研究进展第19-22页
   ·熔体法生长碘化铅晶体存在的两个问题第22-25页
   ·选题意义及研究内容第25-28页
2 晶体生长理论基础第28-40页
   ·晶体生长的热力学第28-31页
   ·晶体生长动力学第31-36页
   ·垂直布里奇曼法原理第36-40页
3 晶体生长实验第40-50页
   ·晶体生长设备及温场设计第40-42页
   ·单晶生长第42-49页
   ·实验结果与分析第49-50页
4 碘化铅单晶体的性能表征第50-53页
   ·I-V特性测试分析第50页
   ·禁带宽度第50-51页
   ·红外透过率第51-52页
   ·能谱特性第52-53页
5 晶体生成长过程中气泡的分析第53-58页
   ·气泡内的压力分析第53-54页
   ·熔体的平衡蒸气压第54-55页
   ·液态铅的平衡蒸气压力第55页
   ·气泡界面产生的附加压力第55-56页
   ·液体静压第56页
   ·气泡的临界半径第56-57页
   ·小结第57-58页
6 结论第58-59页
7 工作展望第59-60页
参考文献第60-65页
攻读硕士期间发表的学术论文第65-67页
致谢第67页

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