摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
第一章 绪论 | 第12-20页 |
·稀土元素 | 第12页 |
·稀土的应用 | 第12-14页 |
·稀土储氢合金 | 第14-16页 |
·储氢合金的发展 | 第14页 |
·储氢合金在电池中的应用 | 第14-15页 |
·电化学储氢原理 | 第15-16页 |
·稀土-Mg-Ni 系储氢合金 | 第16-17页 |
·稀土-Mg-Ni 系储氢合金的结构 | 第16页 |
·稀土-Mg-Ni 系储氢合金的电化学性能 | 第16-17页 |
·稀土合金薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
·气相沉积法 | 第17-18页 |
·电沉积法 | 第18-19页 |
·课题研究的意义及内容 | 第19-20页 |
第二章 实验部分 | 第20-26页 |
·实验药品和实验仪器 | 第20-21页 |
·实验药品 | 第20页 |
·实验设备仪器 | 第20-21页 |
·实验方法 | 第21-23页 |
·试样的制备 | 第21页 |
·低温熔盐电沉积稀土合金膜 | 第21-22页 |
·水溶液中电沉积稀土合金膜 | 第22-23页 |
·合金膜的电化学测试 | 第23-24页 |
·循环伏安(CV) | 第23页 |
·Tafel 极化曲线 | 第23-24页 |
·交流阻抗(EIS) | 第24页 |
·合金膜的表征 | 第24-26页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第24-25页 |
·能谱(EDS) | 第25页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第25-26页 |
第三章 恒电位法制备La-Mg-Ni 合金膜 | 第26-43页 |
·低温熔盐中电沉积制备La-Mg-Ni 合金膜 | 第26-35页 |
·Cu 电极在本体熔体中分别加入镧镁镍后的循环伏安 | 第26-29页 |
·合金膜的Tafel 极化曲线 | 第29-30页 |
·合金膜的交流阻抗 | 第30-33页 |
·合金膜表面形貌及结构 | 第33-35页 |
·水溶液中电沉积制备La-Mg-Ni 三元合金膜 | 第35-43页 |
·水溶液中铜电极上La、Mg、Ni 的循环伏安曲线 | 第35-36页 |
·合金膜的Tafel 极化曲线 | 第36-38页 |
·合金膜交流阻抗测试 | 第38-40页 |
·合金膜在1mol·L~(-1) NaOH 溶液中的循环伏安曲线 | 第40-41页 |
·合金膜表面形貌及结构 | 第41-43页 |
第四章 恒电流法制备La-Mg-Ni 合金膜 | 第43-48页 |
·恒电流沉积的合金膜的电化学性能 | 第43-45页 |
·恒电流沉积的合金膜的Tafel 极化曲线 | 第43-44页 |
·恒电流沉积的合金膜的交流阻抗 | 第44页 |
·恒电流沉积的合金膜的循环伏安 | 第44-45页 |
·恒电流沉积的合金膜的表面形貌及结构 | 第45-48页 |
第五章 脉冲电沉积La-Mg-Ni 合金膜 | 第48-63页 |
·脉冲频率对合金膜析氢性能的影响 | 第48-53页 |
·不同脉冲频率所获合金膜的极化曲线 | 第48-49页 |
·不同脉冲频率所获合金膜的交流阻抗图谱 | 第49-50页 |
·不同频率时所获合金膜的循环伏安特性 | 第50页 |
·不同频率时所获合金膜的表面形貌及结构 | 第50-53页 |
·平均电流密度对合金膜析氢性能的影响 | 第53-58页 |
·不同平均电流密度所获的合金膜的极化曲线 | 第53-54页 |
·不同平均电流密度所获合金膜的交流阻抗 | 第54-55页 |
·不同平均电流密度所获合金膜的循环伏安 | 第55-56页 |
·不同平均电流密度所获合金膜的表面形貌及结构 | 第56-58页 |
·脉冲占空比对合金膜析氢性能的影响 | 第58-63页 |
·不同脉冲占空比下所获的合金膜的极化曲线 | 第58-59页 |
·不同脉冲占空比下所获的合金膜的交流阻抗 | 第59-60页 |
·不同脉冲占空比下所获的合金膜的循环伏安 | 第60页 |
·不同脉冲占空比下所获的合金膜的表面形貌及其结构 | 第60-63页 |
第六章 水溶液中电沉积La-Mg-Ni 工艺对比 | 第63-68页 |
·不同工艺获得合金膜的电化学性能 | 第63-65页 |
·不同工艺获得合金膜的Tafel 极化曲线 | 第63-64页 |
·不同工艺获得合金膜的交流阻抗 | 第64页 |
·不同工艺获得合金膜的循环伏安 | 第64-65页 |
·不同工艺获得合金膜的表面形貌及结构 | 第65-68页 |
·不同工艺获得合金膜的表面形貌 | 第65-66页 |
·不同工艺获得合金膜的X 射线衍射 | 第66-68页 |
第七章 结论 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-72页 |
在学研究成果 | 第72-73页 |
致谢 | 第73页 |