| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-27页 |
| ·磁学和磁性材料简述 | 第10-18页 |
| ·磁性材料宏观行为的能量表述 | 第10-12页 |
| ·磁畴、矫顽力及磁滞现象 | 第12-13页 |
| ·晶粒尺寸效应和有效各向异性 | 第13-15页 |
| ·应力,磁致伸缩与磁弹性各向异性 | 第15-16页 |
| ·软磁材料的复数磁导率及其频率响应 | 第16-18页 |
| ·磁记录知识简介 | 第18-26页 |
| ·磁记录的发展历史及现状 | 第18-20页 |
| ·磁记录的写读过程 | 第20-21页 |
| ·磁记录磁头 | 第21-23页 |
| ·磁记录介质 | 第23-24页 |
| ·超高磁记录密度的要求 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-27页 |
| 第2章 薄膜的制备及性能表征 | 第27-49页 |
| ·薄膜的制备 | 第27-32页 |
| ·制备方法 | 第27-28页 |
| ·薄膜沉积系统 | 第28-31页 |
| ·薄膜生长过程 | 第31-32页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第32页 |
| ·溅射用靶 | 第32页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第32-47页 |
| ·薄膜膜厚的测量 | 第32-35页 |
| ·薄膜磁性能的测量 | 第35-37页 |
| ·高频特性测量 | 第37页 |
| ·薄膜晶体结构的分析 | 第37-40页 |
| ·薄膜成分的分析 | 第40-41页 |
| ·薄膜表面形貌的观察 | 第41-42页 |
| ·表面畴结构观察 | 第42-43页 |
| ·透射电镜(TEM) | 第43-44页 |
| ·薄膜电阻率的测定 | 第44-46页 |
| ·薄膜磁致伸缩测量 | 第46页 |
| ·薄膜应力测量 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第3章 室温制备GMR读磁头用水平取向的COCRPT薄膜及其矫顽力机理分析 | 第49-71页 |
| ·室温制备GMR读磁头用水平取向的CoCrPt薄膜 | 第49-62页 |
| ·GMR读磁头的结构 | 第49-50页 |
| ·水平取向CoCrPt薄膜的研究现状 | 第50-52页 |
| ·(200)取向的Cr及CrW衬底的制备 | 第52-56页 |
| ·水平取向CoCrPt薄膜的制备 | 第56-62页 |
| ·水平取向CoCrPt薄膜矫顽力机理分析 | 第62-69页 |
| ·CoCrPt薄膜的结构与磁性 | 第63-65页 |
| ·微磁学模拟分析CoCrPt薄膜矫顽力增大机理 | 第65-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 第4章 FECON软磁博膜的研究 | 第71-102页 |
| ·块状FeCo合金的性质 | 第71-74页 |
| ·Fe-Co-N薄膜的结构与磁性 | 第74-99页 |
| ·平面基片架制备FeCoN薄膜 | 第75-78页 |
| ·斜基片架制备FeCoN薄膜 | 第78-99页 |
| 参考文献 | 第99-102页 |
| 第5章 FECO反铁磁耦合多层膜研究 | 第102-115页 |
| ·FeCo反铁磁耦合多层膜的结构与磁性 | 第102-106页 |
| ·磁力显微镜研究FeCo反铁磁耦合薄膜的反磁化过程 | 第106-113页 |
| 参考文献 | 第113-115页 |
| 第6章 结论 | 第115-117页 |
| 博士期间发表文章 | 第117-118页 |
| 致谢 | 第118页 |
