摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第1章 绪论 | 第11-21页 |
·引言 | 第11-17页 |
·透明导电薄膜的种类和特点 | 第11-14页 |
·透明导电薄膜的应用 | 第14-16页 |
·ZnO 基透明导电薄膜的国内外研究现状 | 第16-17页 |
·薄膜制备方法 | 第17-20页 |
·化学气相沉积 | 第17-18页 |
·分子束外延(MBE) | 第18-19页 |
·脉冲激光沉积(PLD) | 第19-20页 |
·磁控溅射法 | 第20页 |
·本论文的研究内容及意义 | 第20页 |
·本章小结 | 第20-21页 |
第2章 薄膜的制备理论基础 | 第21-33页 |
·薄膜制备工艺及原理 | 第21-25页 |
·直流反应磁控溅射制备薄膜技术 | 第21-23页 |
·直流反应磁控溅射系统 | 第23-25页 |
·薄膜的形成理论 | 第25-27页 |
·凝结形核过程 | 第25-26页 |
·薄膜的生长过程与生长模式 | 第26-27页 |
·磁控溅射的成膜特点 | 第27页 |
·衬底的预处理 | 第27-28页 |
·薄膜的表征技术 | 第28-32页 |
·薄膜的晶体结构测试 | 第28页 |
·薄膜的光学性质测试 | 第28页 |
·薄膜表面形貌测试 | 第28-29页 |
·薄膜的表面分析技术 | 第29-30页 |
·薄膜的电学性能测试理论 | 第30-31页 |
·薄膜的沉积速率 | 第31-32页 |
·本章小结 | 第32-33页 |
第3章 ZnO、Al、In 薄膜的结构与性能分析 | 第33-42页 |
·ZnO 薄膜制备与结构性能分析 | 第33-36页 |
·ZnO 薄膜概述与制备 | 第33-34页 |
·ZnO 薄膜的结构分析 | 第34-35页 |
·ZnO 薄膜的光学性能分析 | 第35-36页 |
·Al、In 膜的制备与结构性能分析 | 第36-41页 |
·Al、In 膜制备与结构性能分析 | 第36-38页 |
·Al 膜、In 膜的光学性能分析 | 第38-40页 |
·Al 膜、In 膜的电学性能分析 | 第40-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
第4章 ZnO/Al/ZnO 薄膜的结构与性能分析 | 第42-54页 |
·ZnO/Al/ZnO 薄膜的制备 | 第42页 |
·Al 膜厚度对ZnO/Al/ZnO 薄膜性能的影响 | 第42-45页 |
·Al 膜厚度对ZnO/Al/ZnO 薄膜光学性能的影响 | 第43-44页 |
·Al 膜厚度对ZnO/Al/ZnO 薄膜电学性能的影响 | 第44-45页 |
·ZnO 厚度对ZnO/Al/ZnO 薄膜性能的影响 | 第45-49页 |
·上下ZnO 膜厚度对ZnO/Al/ZnO 薄膜结构的影响 | 第45-46页 |
·上下ZnO 厚度对ZnO/Al/ZnO 薄膜光学性能的影响 | 第46-48页 |
·上下ZnO 厚度对ZnO/Al/ZnO 薄膜电学性能的影响 | 第48-49页 |
·热处理温度对ZnO/Al/ZnO 薄膜性能的影响 | 第49-53页 |
·热处理温度对ZnO/Al/ZnO 薄膜结构影响 | 第49-50页 |
·热处理温度对ZnO/Al/ZnO 薄膜光学性能的影响 | 第50-52页 |
·热处理温度对ZnO/Al/ZnO 薄膜电学性能的影响 | 第52-53页 |
·本章小结 | 第53-54页 |
第5章 ZnO/In/ZnO 薄膜的结构与性能分析 | 第54-61页 |
·ZnO/In/ZnO 薄膜的制备与结构分析 | 第54-56页 |
·ZnO 膜厚度对ZnO/In/ZnO 薄膜结构的影响 | 第55页 |
·热处理温度对ZnO/In/ZnO 薄膜结构的影响 | 第55-56页 |
·ZnO/In/ZnO 薄膜的光学性能研究 | 第56-58页 |
·In 膜厚度对ZnO/In/ZnO 薄膜光学性能的影响 | 第56-57页 |
·ZnO 膜厚度对ZnO/In/ZnO 薄膜光学性能的影响 | 第57-58页 |
·退火温度对ZnO/In/ZnO 薄膜光学性能的影响 | 第58页 |
·ZnO/In/ZnO 薄膜的电学性能研究 | 第58-60页 |
·In 膜厚度对ZnO/In/ZnO 薄膜电学性能的影响 | 第58-59页 |
·ZnO 膜厚度对ZnO/In/ZnO 薄膜电学性能的影响 | 第59页 |
·退火温度对ZnO/In/ZnO 薄膜电学性能的影响 | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
第6章 总结 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
附录 | 第69页 |