| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·铝及其合金概述 | 第10-11页 |
| ·铝合金表面处理的目的和意义 | 第11-12页 |
| ·微弧氧化技术的涵义 | 第12页 |
| ·微弧氧化技术的发展史 | 第12-13页 |
| ·微弧氧化技术的国内外研究现状 | 第13-14页 |
| ·膜层的制备方法 | 第14-17页 |
| ·微弧氧化处理的特点和应用领域 | 第17-20页 |
| ·现存的问题及研究动向 | 第20-21页 |
| ·应用技术分析 | 第21-23页 |
| ·课题选择与研究的目的和意义 | 第23-25页 |
| 第二章 试验部分 | 第25-36页 |
| ·试验材料 | 第25-26页 |
| ·试验材料选择 | 第25页 |
| ·试样尺寸及制备 | 第25-26页 |
| ·试验设备 | 第26-28页 |
| ·微弧氧化试验设备 | 第26-27页 |
| ·微弧氧化膜层检测设备 | 第27-28页 |
| ·实验药品和溶液配置 | 第28-29页 |
| ·试验药品 | 第28-29页 |
| ·微弧氧化电解液的配制 | 第29页 |
| ·试验的工艺流程 | 第29-30页 |
| ·实验方案 | 第30-32页 |
| ·样品预处理 | 第31-32页 |
| ·微弧氧化处理 | 第32页 |
| ·样品后处理 | 第32页 |
| ·微弧氧化的过程 | 第32-33页 |
| ·影响微弧氧化膜的因素 | 第33-36页 |
| 第三章 铵盐做添加剂微弧氧化试验结果及分析 | 第36-49页 |
| ·膜层的厚度测量及颜色观察 | 第36-43页 |
| ·硅酸钠60g/L、电压550V、偏钒酸铵5g/L 条件下膜厚及颜色观察 | 第36-39页 |
| ·硅酸钠60g/L、电压550V、偏钒酸铵6.5g/L 条件下膜厚及颜色观察 | 第39-41页 |
| ·硅酸钠60g/L、电压550V、偏钒酸铵8g/L 条件下膜厚及颜色观察 | 第41-43页 |
| ·现象分析 | 第43页 |
| ·结果分析 | 第43-45页 |
| ·电压固定、添加剂浓度固定、时间对膜厚及着色的影响 | 第43-44页 |
| ·电压固定、电流密度固定、添加剂浓度对膜厚及着色的影响 | 第44-45页 |
| ·电压固定、添加剂浓度固定、电流密度对膜厚及着色的影响 | 第45页 |
| ·氧化时间对基体和试样尺寸的影响 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 铵盐做添加剂膜层检测 | 第49-61页 |
| ·膜层表面成分 | 第49-50页 |
| ·膜层相组成 | 第50-51页 |
| ·膜层粗糙度 | 第51-52页 |
| ·膜层显微硬度 | 第52页 |
| ·膜层的表面形貌 | 第52-54页 |
| ·膜层的耐磨性 | 第54-58页 |
| ·膜层的耐蚀性 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 钴盐做添加剂微弧氧化试验数据及分析 | 第61-70页 |
| ·膜层厚度检测及颜色观察 | 第61-65页 |
| ·硅酸钠100g/L、电压550V、硫酸钴2g/L 条件下膜厚及颜色观察 | 第61-63页 |
| ·硅酸钠100g/L、电压550V、硫酸钴5g/L 条件下膜厚及颜色观察 | 第63-65页 |
| ·硅酸钠100g/L、电压550V、硫酸钴8g/L 条件下膜厚及颜色观察 | 第65页 |
| ·现象分析 | 第65-66页 |
| ·结果分析 | 第66-67页 |
| ·电压固定、添加剂浓度固定、时间对膜厚及着色的影响 | 第66页 |
| ·电压固定、电流密度固定、添加剂浓度对膜厚及着色的影响 | 第66-67页 |
| ·电压固定、添加剂浓度固定、电流密度对膜厚及着色的影响 | 第67页 |
| ·氧化时间对基体和试样尺寸的影响 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 钴盐做添加剂膜层检测 | 第70-80页 |
| ·膜层的表面成分 | 第70-71页 |
| ·膜层相组成 | 第71-72页 |
| ·膜层粗糙度检测 | 第72页 |
| ·膜层显微硬度 | 第72-73页 |
| ·膜层的表面形貌 | 第73-75页 |
| ·膜层的耐磨性研究 | 第75-77页 |
| ·膜层的耐蚀性研究 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-80页 |
| 结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 攻读学位期间发表的论文和所取得的科研成果 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
