构筑缺陷氧化钨复合材料及其光催化制氢性能的研究

摘要第5-7页
abstract第7-12页
第一章绪论第12-30页
    1.1研究背景第12页
    1.2半导体光催化技术第12-16页
        1.2.1光催化机理第12-13页
        1.2.2光催化影响因素第13-16页
    1.3氧化钨概述第16-21页
        1.3.1结构和性质第16-18页
        1.3.2制备方法第18-19页
        1.3.3W18O49研究进展第19-21页
    1.4W18O49的光催化应用第21-26页
        1.4.1降解污染物第21-22页
        1.4.2光催化产氢第22-23页
        1.4.3二氧化碳还原第23-25页
        1.4.4固氮第25-26页
    1.5W18O49的改性策略第26-28页
        1.5.1离子掺杂第26-27页
        1.5.2贵金属负载第27页
        1.5.3半导体复合第27-28页
    1.6论文研究意义及内容第28-30页
        1.6.1论文研究目的及意义第28-29页
        1.6.2论文研究主要内容第29-30页
第二章实验及表征第30-33页
    2.1实验试剂第30页
    2.2实验仪器及设备第30-31页
    2.3材料表征方法第31-32页
    2.4光电测试第32页
    2.5光催化性能测试第32页
    2.6光催化性能稳定性测试第32-33页
第三章W18O49的制备及光电性能的探究第33-43页
    3.1引言第33-34页
    3.2W18O49催化剂的制备第34页
    3.3结果与讨论第34-42页
        3.3.1物相分析第34-35页
        3.3.2微观形貌分析第35-36页
        3.3.3化学态分析第36-37页
        3.3.4光电化学性质分析第37-38页
        3.3.5ESR分析第38-39页
        3.3.6紫外可见漫反射分析第39-42页
    3.4总结第42-43页
第四章CdS/W18O49Z构型光催化剂的合成及光催化产氢性能的研究第43-55页
    4.1引言第43-44页
    4.2样品制备第44页
        4.2.1W18O49催化剂的制备第44页
        4.2.2CdS/W18O49复合催化剂的制备第44页
    4.3结果与讨论第44-54页
        4.3.1物相分析第44-45页
        4.3.2形貌分析第45-47页
        4.3.3光催化活性分析第47-48页
        4.3.4化学态分析第48-49页
        4.3.5光电化学性质分析第49-51页
        4.3.6紫外可见漫反射分析第51-52页
        4.3.7光催化机理分析第52-54页
    4.4总结第54-55页
第五章1D/2DHCN/W18O49Z构型光催化剂的合成及光催化产氢性能的研究第55-69页
    5.1引言第55-56页
    5.2样品制备第56页
        5.2.1HCN催化剂的制备第56页
        5.2.2WCN复合催化剂的制备第56页
    5.3结果与讨论第56-68页
        5.3.1物相分析第56-57页
        5.3.2形貌分析第57-59页
        5.3.3光催化活性分析第59-60页
        5.3.4化学态分析第60-62页
        5.3.5光电化学性质分析第62-64页
        5.3.6紫外可见漫反射分析第64-65页
        5.3.7光催化机理分析第65-68页
    5.4总结第68-69页
第六章结论第69-70页
参考文献第70-80页
致谢第80-81页
硕士期间个人成果第81页

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