AlN陶瓷表面快速制备铜覆层过程数值模拟与实验研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-26页 |
·AlN 陶瓷简介与课题背景 | 第10-13页 |
·AlN 陶瓷表面金属化工艺方法现状 | 第13-21页 |
·烧结法 | 第13-14页 |
·厚膜金属化 | 第14页 |
·真空敷接及钎焊法 | 第14-15页 |
·直接敷铜陶瓷基板及制备方法 | 第15-17页 |
·其他方法 | 第17-19页 |
·激光熔覆方法简介 | 第19-21页 |
·等离子喷涂法简介 | 第21页 |
·激光熔覆数值模拟的发展与现状 | 第21-22页 |
·分析方法 | 第22-25页 |
·课题主要内容 | 第25-26页 |
第2章 反应热力学条件计算 | 第26-31页 |
·热力学原理 | 第26-28页 |
·反应温度范围的确定 | 第28-31页 |
第3章 熔覆材料温度的计算 | 第31-39页 |
·铜粉颗粒与激光束的交互作用 | 第31-34页 |
·AlN 基体和激光束的交互作用 | 第34-35页 |
·铜粉末到达基体前的温度变化 | 第35-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
第4章 保护气体散热效果的表征 | 第39-64页 |
·模型的建立和基本求解公式的导出 | 第39-43页 |
·牛顿流体基本方程组 | 第43-51页 |
·连续性方程 | 第44-45页 |
·运动方程 | 第45-49页 |
·能量方程 | 第49-51页 |
·简化牛顿流体基本方程组 | 第51-58页 |
·连续性方程 | 第51-53页 |
·运动方程 | 第53-56页 |
·能量方程 | 第56-58页 |
·解方程组 | 第58-62页 |
·本章小结 | 第62-64页 |
第5章 激光熔覆过程的温度场有限元分析 | 第64-85页 |
·有限元分析模型 | 第64-67页 |
·物理模型假设 | 第64-65页 |
·热源模型 | 第65-67页 |
·单道激光熔覆过程中的温度场模拟 | 第67-76页 |
·材料热物性参数激光熔覆温度场模拟的实现 | 第67-70页 |
·Marc 生死单元技术 | 第70-71页 |
·模拟结果普遍规律 | 第71-76页 |
·工艺参数对激光熔覆温度场的影响 | 第76-83页 |
·激光功率对激光熔覆温度场的影响 | 第76-79页 |
·预热温度对激光熔覆温度场的影响 | 第79-81页 |
·扫描速率对激光熔覆温度场的影响 | 第81-83页 |
·本章小结 | 第83-85页 |
第6章 单道激光熔覆过程的应力分析与模拟 | 第85-101页 |
·激光熔覆裂纹产生的判断依据 | 第85-86页 |
·内应力产生机理概述 | 第85页 |
·影响熔覆层内应力大小及分布的因素 | 第85-86页 |
·基于温度场的热应力场计算模型 | 第86-90页 |
·铜覆层裂纹产生的判断依据 | 第86-87页 |
·AlN 基体裂纹产生的判断依据 | 第87-89页 |
·初始条件和边界条件 | 第89-90页 |
·AlN 基体应力场模拟结果讨论 | 第90-97页 |
·铜熔覆层应变情况分析 | 第97-99页 |
·本章小结 | 第99-101页 |
第7章 AlN 陶瓷表面快速制备铜覆层试验研究 | 第101-109页 |
·试验材料和设备及工艺参数 | 第101-102页 |
·激光熔覆试样质量分析 | 第102-105页 |
·等离子喷涂试样质量分析 | 第105-108页 |
·本章小结 | 第108-109页 |
结论 | 第109-111页 |
参考文献 | 第111-114页 |
附录 | 第114-123页 |
致谢 | 第123页 |