| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-37页 |
| ·引言 | 第17页 |
| ·红外辐射基础 | 第17-21页 |
| ·红外辐射及其特征 | 第17-19页 |
| ·辐射起源的经典物理模型 | 第19-21页 |
| ·红外辐射基本定律 | 第21-22页 |
| ·基尔霍夫（Kirchhoff）定律 | 第21页 |
| ·斯忒藩-波尔兹曼（Stefan-Boltzman）定律 | 第21页 |
| ·维恩位移定律 | 第21-22页 |
| ·红外发射率基础 | 第22-29页 |
| ·红外发射率的定义与分类 | 第23-24页 |
| ·红外发射率的影响因素 | 第24-26页 |
| ·可变发射率的几种机制 | 第26-29页 |
| ·镧锰氧化物的研究现状 | 第29-35页 |
| ·镧锰氧化物的晶体结构和Jahn-Teller 效应 | 第29-31页 |
| ·镧锰氧化物的电子结构和双交换作用 | 第31-33页 |
| ·镧锰氧化物的磁结构 | 第33-34页 |
| ·镧锰氧化物的红外振动模式 | 第34-35页 |
| ·研究思路及主要内容 | 第35-37页 |
| 第二章 A 位二价掺杂镧锰氧化物的制备与红外发射率研究 | 第37-63页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·Sr 掺杂镧锰氧化物的红外发射率 | 第38-50页 |
| ·样品的制备与测试 | 第38-39页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第39-42页 |
| ·电磁特性分析 | 第42-45页 |
| ·红外吸收光谱分析 | 第45-46页 |
| ·红外发射率分析 | 第46-50页 |
| ·不同制备方法Sr 掺杂镧锰氧化物的红外发射率 | 第50-56页 |
| ·样品的制备与测试 | 第50-51页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第51-52页 |
| ·SEM 与EDX 分析 | 第52-53页 |
| ·磁性能与红外吸收光谱分析 | 第53-55页 |
| ·红外发射率分析 | 第55-56页 |
| ·Ca 掺杂镧锰氧化物的红外发射率 | 第56-62页 |
| ·样品的制备与测试 | 第56-57页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第57-58页 |
| ·电磁特性分析 | 第58-60页 |
| ·红外吸收光谱分析 | 第60页 |
| ·红外发射率分析 | 第60-62页 |
| ·Sr 与Ca 掺杂镧锰氧化物的红外发射率比较 | 第62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 第三章 A 位一价掺杂镧锰氧化物的制备与红外发射率研究 | 第63-77页 |
| ·引言 | 第63-64页 |
| ·Na 掺杂镧锰氧化物的红外发射率 | 第64-71页 |
| ·样品的制备与测试 | 第64页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第64-66页 |
| ·电子自旋共振波谱分析 | 第66-68页 |
| ·电阻率和红外吸收光谱分析 | 第68-70页 |
| ·红外发射率分析 | 第70-71页 |
| ·K 掺杂镧锰氧化物的红外发射率 | 第71-76页 |
| ·样品的制备与测试 | 第71-72页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第72-73页 |
| ·电子自旋共振波谱分析 | 第73-74页 |
| ·电阻率和红外吸收光谱分析 | 第74-75页 |
| ·红外发射率分析 | 第75-76页 |
| ·Na 和K 掺杂镧锰氧化物的红外发射率比较 | 第76页 |
| ·一价与二价掺杂镧锰氧化物的红外发射率比较 | 第76页 |
| ·小结 | 第76-77页 |
| 第四章 A 位离子缺位体系的制备与红外发射率研究 | 第77-85页 |
| ·引言 | 第77页 |
| ·样品制备与测试 | 第77-78页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第78-79页 |
| ·电磁特性分析 | 第79-80页 |
| ·红外吸收光谱分析 | 第80-81页 |
| ·红外发射率分析 | 第81-83页 |
| ·缺位体系与正分体系的红外发射率比较 | 第83页 |
| ·小结 | 第83-85页 |
| 第五章 B 位掺杂镧锰氧化物的制备与红外发射率研究 | 第85-96页 |
| ·引言 | 第85页 |
| ·Cu 掺杂镧锰氧化物的红外发射率 | 第85-90页 |
| ·样品的制备与表征 | 第85-86页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第86-87页 |
| ·电子自旋共振波谱分析 | 第87-88页 |
| ·红外吸收光谱分析 | 第88-89页 |
| ·红外发射率分析 | 第89-90页 |
| ·Ti 掺杂镧锰氧化物的红外发射率 | 第90-94页 |
| ·样品的制备与表征 | 第90-91页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第91-92页 |
| ·电子自旋共振波谱分析 | 第92-93页 |
| ·红外吸收光谱分析 | 第93页 |
| ·红外发射率分析 | 第93-94页 |
| ·Cu 和Ti 掺杂镧锰氧化物的红外发射率比较 | 第94-95页 |
| ·A 位与 B 位掺杂镧锰氧化物的红外发射率比较 | 第95页 |
| ·小结 | 第95-96页 |
| 第六章 镧锰氧化物ABO_3结构掺杂与红外发射率的若干关系探讨 | 第96-103页 |
| ·镧锰氧化物ABO_3 结构掺杂特性 | 第96-97页 |
| ·镧锰氧化物的晶格结构与红外发射率 | 第97-98页 |
| ·镧锰氧化物的电磁特性与红外发射率 | 第98-100页 |
| ·镧锰氧化物的红外吸收与红外发射率 | 第100-103页 |
| 第七章 掺杂镧锰氧化物薄膜和涂层红外发射率的初步研究 | 第103-117页 |
| ·掺杂镧锰氧化物薄膜的研究 | 第103-112页 |
| ·引言 | 第103-104页 |
| ·样品的制备与测试 | 第104-105页 |
| ·溶胶凝胶法和反提拉涂膜工艺 | 第105-106页 |
| ·前躯体溶胶的热分析 | 第106-107页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第107-108页 |
| ·薄膜的形貌分析 | 第108-109页 |
| ·薄膜的红外发射率 | 第109-112页 |
| ·薄膜的抗紫外辐射性能 | 第112页 |
| ·掺杂镧锰氧化物涂料的研究 | 第112-116页 |
| ·引言 | 第112-113页 |
| ·样品的制备与测试 | 第113页 |
| ·涂层的红外吸收 | 第113-114页 |
| ·涂层的形貌 | 第114-115页 |
| ·涂层的发射率 | 第115-116页 |
| ·小结 | 第116-117页 |
| 第八章 总结与展望 | 第117-120页 |
| ·总结 | 第117-119页 |
| ·展望 | 第119-120页 |
| 参考文献 | 第120-132页 |
| 致谢 | 第132-133页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第133-134页 |
