| 摘要 | 第5-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第15-35页 |
| 1.1 课题背景 | 第15-19页 |
| 1.1.1 固溶体的概念 | 第15-16页 |
| 1.1.2 固溶体分类 | 第16-19页 |
| 1.2 固溶体的分析及存在问题 | 第19-24页 |
| 1.2.1 镍基固溶体对合金晶界脆化研究 | 第20-22页 |
| 1.2.2 尖晶石型固溶体离子占位研究 | 第22-24页 |
| 1.3 同步辐射谱学方法 | 第24-28页 |
| 1.3.1 X射线吸收精细结构(XAFS)谱学方法 | 第25-26页 |
| 1.3.2 微束荧光、衍射和吸收谱联用 | 第26-28页 |
| 1.3.3 小波变换 | 第28页 |
| 1.4 同步辐射光束线站 | 第28-32页 |
| 1.4.1 上海光源X射线吸收精细结构光束线站(BL14W1) | 第28-29页 |
| 1.4.2 上海光源硬X射线微聚焦及应用光束线站(BL15U1) | 第29-31页 |
| 1.4.3 上海光源X射线衍射线站(BL14B1) | 第31-32页 |
| 1.5 本论文研究内容及意义 | 第32-35页 |
| 第二章 纯镍晶界固溶体诱导Te腐蚀的微观机理研究 | 第35-53页 |
| 2.1 引言 | 第35-36页 |
| 2.2 实验材料及样品制备 | 第36-45页 |
| 2.2.1 纯镍试样制备 | 第36页 |
| 2.2.2 Te薄膜制备 | 第36-40页 |
| 2.2.3 扩散实验及微区样品制备 | 第40-42页 |
| 2.2.4 试验方法和数据分析 | 第42-45页 |
| 2.3 结果和讨论 | 第45-51页 |
| 2.3.1 Te腐蚀镍的晶界扩散行为 | 第45页 |
| 2.3.2 晶界腐蚀产物的微区结构分析 | 第45-49页 |
| 2.3.3 晶界腐蚀产物引起脆化机理分析 | 第49-51页 |
| 2.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第三章 镍铬合金Te腐蚀的微观机理研究 | 第53-79页 |
| 3.1 引言 | 第53-54页 |
| 3.2 实验材料及样品制备 | 第54-56页 |
| 3.2.1 镍铬合金制备 | 第54-55页 |
| 3.2.2 Te薄膜制备 | 第55-56页 |
| 3.3 Te腐蚀镍铬合金界面腐蚀 | 第56-69页 |
| 3.3.1 界面反应产物确定 | 第56-59页 |
| 3.3.2 表面产物结构分析 | 第59-65页 |
| 3.3.3 时效时间对合金表面产物结构的影响 | 第65-69页 |
| 3.4 Te腐蚀镍铬合金晶内腐蚀 | 第69-72页 |
| 3.4.1 晶内腐蚀产物确定 | 第69-71页 |
| 3.4.2 晶内腐蚀产物结构研究 | 第71-72页 |
| 3.5 实效温度对表面形貌影响 | 第72-74页 |
| 3.6 实效温度对Te扩散影响 | 第74-76页 |
| 3.7 Cr抗晶界脆化机理分析 | 第76-78页 |
| 3.8 本章小结 | 第78-79页 |
| 第四章 XAFS方法研究尖晶石固溶相过渡金属结构特征 | 第79-99页 |
| 4.1 引言 | 第79-80页 |
| 4.2 实验部分 | 第80-83页 |
| 4.2.1 样品制备 | 第80-82页 |
| 4.2.2 试验方法和数据分析 | 第82-83页 |
| 4.3 结果与分析 | 第83-95页 |
| 4.3.1 XAFS结果 | 第83-94页 |
| 4.3.2 紫外可见吸收光谱学 | 第94-95页 |
| 4.4 讨论 | 第95-97页 |
| 4.5 本章小结 | 第97-99页 |
| 第五章 结论与展望 | 第99-103页 |
| 5.1 本学位论文的工作总结 | 第99-101页 |
| 5.2 本学位论文的创新点,不足和展望 | 第101-103页 |
| 参考文献 | 第103-111页 |
| 致谢 | 第111-113页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第113-114页 |
