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SOI基横向多电荷层SACM雪崩光电二极管的设计与研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第10-18页
    1.1 研究背景第10-11页
    1.2 国内外研究现状第11-16页
    1.3 研究意义第16-17页
    1.4 论文结构第17-18页
第二章 工作原理与特性分析第18-34页
    2.1 雪崩光电二极管的工作原理第18页
    2.2 APD的碰撞电离与倍增噪声第18-21页
    2.3 碰撞电离的局域模型与非局域模型第21-22页
    2.4 SPAD的性能参数第22-24页
    2.5 SPAD盖革模式工作原理第24-25页
    2.6 SPAD的淬火电路第25-27页
        2.6.1 无源淬火电路第25-26页
        2.6.2 有源淬火电路第26页
        2.6.3 门控淬火电路第26-27页
    2.7 Silvaco仿真软件介绍第27-30页
    2.8 微电子工艺原理第30-33页
    2.9 本章小结第33-34页
第三章 器件设计与特性研究第34-42页
    3.1 结构设计第34-35页
    3.2 雪崩电压第35-38页
    3.3 光暗电流第38-39页
    3.4 频率特性第39-41页
    3.5 本章小结第41-42页
第四章 工艺仿真与特性研究第42-49页
    4.1 工艺实现第42-47页
    4.2 雪崩电压第47-48页
    4.3 本章小结第48-49页
第五章 淬火电路设计第49-57页
    5.1 系统设计第49-52页
    5.2 读数电路第52-53页
    5.3 淬火电路第53-56页
    5.4 本章小结第56-57页
第六章 总结与展望第57-58页
参考文献第58-63页
致谢第63-64页
附录A (攻读学位期间发表论文)第64-65页
附录B: (攻读学位期间参与申请的专利)第65-66页
附录C: (Silvaco仿真程序)第66-67页

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