| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第11-13页 |
| 1.2 半导体光催化概述 | 第13-15页 |
| 1.2.1 半导体光催化原理 | 第13-14页 |
| 1.2.2 高维多目标进化算法研究进展 | 第14页 |
| 1.2.3 半导体光催化剂的改性 | 第14-15页 |
| 1.3 石墨相氮化碳基光催化材料研究进展 | 第15-23页 |
| 1.3.1 石墨相氮化碳简介 | 第15页 |
| 1.3.2 石墨相氮化碳结构特点 | 第15-16页 |
| 1.3.3 石墨相氮化碳的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.3.4 石墨相氮化碳的修饰改性 | 第17-20页 |
| 1.3.5 石墨相氮化碳在催化领域的实际应用 | 第20-21页 |
| 1.3.6 课题研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验方法 | 第23-28页 |
| 2.1 实验试剂和药品 | 第23页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第23页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第23页 |
| 2.2 样品物理性能表征 | 第23-25页 |
| 2.2.1 X射线衍射（XRD）表征 | 第23-24页 |
| 2.2.2 透射电子显微镜（TEM）表征 | 第24页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜（SEM）表征 | 第24页 |
| 2.2.4 傅立叶变换红外光谱表征 | 第24页 |
| 2.2.5 比表面积和孔径分布（BET）表征 | 第24-25页 |
| 2.3 催化剂性能表征 | 第25-26页 |
| 2.3.1 光催化性能测试 | 第25页 |
| 2.3.2 光催化剂的重复性测试 | 第25-26页 |
| 2.4 光催化材料的制备 | 第26-28页 |
| 2.4.1 石墨相氮化碳的制备 | 第26-27页 |
| 2.4.2 还原氧化石墨烯（rGO）的制备 | 第27页 |
| 2.4.3 g-C_3N_4-ZnO及g-C_3N_4-ZnO/rGO粉体的制备 | 第27-28页 |
| 第3章 石墨相氮化碳材料的光催化性能研究 | 第28-35页 |
| 3.1 前言 | 第28页 |
| 3.2 石墨相氮化碳材料的表征 | 第28-33页 |
| 3.2.1 XRD分析 | 第28-29页 |
| 3.2.2 TEM分析 | 第29-30页 |
| 3.2.3 SEM分析 | 第30-31页 |
| 3.2.4 BET分析 | 第31-32页 |
| 3.2.5 光催化性能测试 | 第32-33页 |
| 3.3 本章小结 | 第33-35页 |
| 第4章 g-C_3N_4-ZnO/rGO复合材料的光催化性能研究 | 第35-51页 |
| 4.1 前言 | 第35页 |
| 4.2 石墨相氮化碳与氧化锌质量比对复合物结构性能的影响 | 第35-40页 |
| 4.2.1 复合物的XRD分析 | 第36-37页 |
| 4.2.2 复合物的TEM分析 | 第37页 |
| 4.2.3 复合物的SEM分析 | 第37-38页 |
| 4.2.4 复合物的光催化性能测试 | 第38-40页 |
| 4.3 还原氧化石墨烯含量对复合物结构性能等的影响 | 第40-47页 |
| 4.3.1 复合物的XRD分析 | 第40-41页 |
| 4.3.2 复合物的TEM分析 | 第41-42页 |
| 4.3.3 复合物的SEM和EDS分析 | 第42-44页 |
| 4.3.4 FT-IR分析 | 第44页 |
| 4.3.5 50%g-C_3N_4-ZnO/xwt%rGO的光催化性能测试 | 第44-47页 |
| 4.4 光催化降解染料的机理研究 | 第47-48页 |
| 4.5 本章小结 | 第48-51页 |
| 结论 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
