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电磁发射小口径电枢电流熔蚀特性研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
1 绪论第10-19页
    1.1 研究背景与意义第10-12页
    1.2 国内外研究现状第12-17页
    1.3 本文主要工作第17-19页
2 光洁轨道表面电磁发射电流熔蚀效应研究第19-44页
    2.1 实验技术和测量方法第19-22页
    2.2 三种电流熔蚀模式及其润滑效应研究第22-29页
    2.3 光洁表面电流熔蚀影响因素研究第29-38页
    2.4 电流熔蚀发生发展过程第38-42页
    2.5 本章小结第42-44页
3 重复发射沉积层对电流熔蚀效应影响实验研究第44-55页
    3.1 实验方案设计第44-45页
    3.2 轨道表面铝沉积规律第45-50页
    3.3 连续发射电枢表面电流熔蚀变化规律第50-54页
    3.4 本章小结第54-55页
4 有沉积层条件下枢轨接触界面磁热特性研究第55-69页
    4.1 枢轨界面磁热仿真模型第55-60页
    4.2 有沉积层条件下枢轨接触界面电磁特性研究第60-65页
    4.3 有沉积层条件下枢轨接触界面电热熔蚀特性研究第65-67页
    4.4 本章小结第67-69页
5 总结与展望第69-72页
    5.1 全文总结第69-70页
    5.2 研究展望第70-72页
致谢第72-73页
参考文献第73-76页

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