PI/（MMT+AlN）纳米复合薄膜结构、耐电晕特性及机理研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第15-29页 |
| 1.1 课题背景 | 第15-16页 |
| 1.2 聚酰亚胺简介及分类 | 第16-17页 |
| 1.3 聚合物基纳米电介质的界面结构与模型 | 第17-19页 |
| 1.4 聚合物基纳米电介质的国内外研究进展 | 第19-25页 |
| 1.4.1 制备工艺研究进展 | 第20-22页 |
| 1.4.2 耐电晕性能及机理研究进展 | 第22-24页 |
| 1.4.3 介电极化研究进展 | 第24-25页 |
| 1.5 同步辐射小角 X 射线散射应用研究进展 | 第25-27页 |
| 1.6 论文研究目的及主要研究工作 | 第27-29页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第29-38页 |
| 2.1 实验材料与仪器 | 第29-30页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第29页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第29-30页 |
| 2.2 结构表征 | 第30-31页 |
| 2.2.1 FTIR 测试 | 第30页 |
| 2.2.2 XRD 测试 | 第30页 |
| 2.2.3 SAXS 测试 | 第30页 |
| 2.2.4 形貌测试 | 第30-31页 |
| 2.3 性能测试 | 第31-32页 |
| 2.3.1 介电谱测试 | 第31页 |
| 2.3.2 击穿场强测试 | 第31页 |
| 2.3.3 电晕老化测试 | 第31-32页 |
| 2.3.4 热性能测试 | 第32页 |
| 2.4 MMT 与 AlN 的结构特征 | 第32-35页 |
| 2.4.1 MMT 的结构特征 | 第32-34页 |
| 2.4.2 AlN 的结构特征 | 第34-35页 |
| 2.5 聚酰亚胺基纳米复合薄膜的制备 | 第35-37页 |
| 2.5.1 单层纳米复合薄膜制备 | 第36页 |
| 2.5.2 三层纳米复合薄膜制备 | 第36-37页 |
| 2.6 本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 单层复合薄膜的微观结构 | 第38-55页 |
| 3.1 单层薄膜的红外光谱表征 | 第38-40页 |
| 3.2 单层薄膜的 X 射线衍射表征 | 第40-41页 |
| 3.3 单层薄膜的形貌表征 | 第41-47页 |
| 3.4 单层薄膜的小角 X 射线散射表征 | 第47-54页 |
| 3.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 三层复合薄膜的微观结构 | 第55-68页 |
| 4.1 三层薄膜的红外光谱表征 | 第55-57页 |
| 4.2 三层薄膜的 X 射线衍射表征 | 第57-59页 |
| 4.3 三层薄膜的形貌表征 | 第59-61页 |
| 4.4 三层薄膜的小角 X 射线散射表征 | 第61-67页 |
| 4.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 第5章 复合薄膜介电性能及热性能 | 第68-85页 |
| 5.1 薄膜的介电谱 | 第68-74页 |
| 5.1.1 单层薄膜的介电谱 | 第68-71页 |
| 5.1.2 三层薄膜的介电谱 | 第71-74页 |
| 5.2 薄膜的击穿特性 | 第74-77页 |
| 5.2.1 单层薄膜的击穿特性 | 第74-76页 |
| 5.2.2 三层薄膜的击穿特性 | 第76-77页 |
| 5.3 薄膜的耐电晕性能 | 第77-81页 |
| 5.3.1 单层薄膜的耐电晕性能 | 第77-79页 |
| 5.3.2 三层薄膜的耐电晕性能 | 第79-81页 |
| 5.4 薄膜的热稳定性能 | 第81-84页 |
| 5.4.1 单层薄膜的热稳定性能 | 第81-82页 |
| 5.4.2 三层薄膜的热稳定性能 | 第82-84页 |
| 5.5 本章小结 | 第84-85页 |
| 第6章 复合薄膜耐电晕老化结构特性及机理 | 第85-119页 |
| 6.1 复合薄膜耐电晕实验 | 第85-86页 |
| 6.2 电晕时间对薄膜化学结构的影响 | 第86-89页 |
| 6.2.1 单层薄膜的化学结构 | 第86-87页 |
| 6.2.2 三层薄膜的化学结构 | 第87-89页 |
| 6.3 电晕时间对薄膜表面形貌的影响 | 第89-100页 |
| 6.3.1 单层薄膜的 AFM 表征 | 第89-91页 |
| 6.3.2 三层薄膜的 AFM 表征 | 第91-94页 |
| 6.3.3 单层薄膜的 SEM 表征 | 第94-97页 |
| 6.3.4 三层薄膜的 SEM 表征 | 第97-100页 |
| 6.4 电晕时间对薄膜相结构的影响 | 第100-106页 |
| 6.4.1 单层薄膜的相结构 | 第100-103页 |
| 6.4.2 三层薄膜的相结构 | 第103-106页 |
| 6.5 电晕时间对薄膜聚集态结构的影响 | 第106-114页 |
| 6.5.1 单层薄膜的聚集态结构 | 第106-110页 |
| 6.5.2 三层薄膜的聚集态结构 | 第110-114页 |
| 6.6 薄膜耐电晕老化机理 | 第114-117页 |
| 6.7 本章小结 | 第117-119页 |
| 结论 | 第119-120页 |
| 参考文献 | 第120-127页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第127-129页 |
| 致谢 | 第129页 |
