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光敏性抗菌SiO2粒子的制备及其在涂层中的应用

摘要第3-4页
Abstract第4页
第一章 绪论第7-26页
    1.1 引言第7-9页
        1.1.1 微生物及其危害第7页
        1.1.2 细菌在材料表面的生长第7-9页
        1.1.3 抗菌涂层的意义第9页
    1.2 抗菌涂层的分类第9-17页
        1.2.1 阻粘附型抗菌涂层第9-12页
        1.2.2 缓释型抗菌涂层第12-14页
        1.2.3 接触型抗菌涂层第14-17页
    1.3 季铵盐抗菌涂层概述第17-20页
        1.3.1 季铵盐抗菌剂的发展现状第17-18页
        1.3.2 季铵盐抗菌剂的抗菌机理第18-19页
        1.3.3 季铵盐抗菌涂层研究第19-20页
    1.4 二氧化硅纳米粒子在涂层中的应用第20-23页
        1.4.1 纳米材料及其效应第20-21页
        1.4.2 纳米二氧化硅性能与应用第21-22页
        1.4.3 纳米二氧化硅在紫外固化涂层中的应用第22-23页
    1.5 光固化技术在抗菌涂层领域的应用第23-24页
        1.5.1 光固化技术简介第23-24页
        1.5.2 光固化在抗菌涂层领域的应用第24页
    1.6 本课题的研究目的及内容第24-26页
第二章 光敏抗菌SiO_2纳米粒子的制备及其在涂层中的应用第26-41页
    2.1 引言第26-27页
    2.2 实验部分第27-32页
        2.2.1 主要原料和试剂第27页
        2.2.2 实验仪器和设备第27-28页
        2.2.3 实验步骤第28-29页
        2.2.4 分析测试第29-32页
    2.3 结果与讨论第32-40页
        2.3.1 光敏性季铵盐(QAC)的结构表征第32-33页
        2.3.2 光敏性抗菌SiO_2纳米粒子(SiO_2-SHx-QACy)的形貌与结构表征第33-36页
        2.3.3 光敏性抗菌SiO_2纳米粒子(SiO_2-SHx-QACy)的抗菌性能表征第36-37页
        2.3.4 光固化抗菌涂层性能研究第37-39页
        2.3.5 光固化涂层抗菌性能表征第39-40页
    2.4 本章小结第40-41页
第三章 自迁移抗菌粒子的制备及其在涂层中的应用第41-61页
    3.1 引言第41-42页
    3.2 实验部分第42-46页
        3.2.1 主要原料和试剂第42页
        3.2.2 实验仪器和设备第42-43页
        3.2.3 实验步骤第43-44页
        3.2.4 分析测试第44-46页
    3.3 结果与讨论第46-59页
        3.3.1 含氟季铵盐抗菌单体(QACF)的结构表征第46-47页
        3.3.2 含氟季铵盐抗菌硅球(SiO_2-SHx-QACFy)的形貌与结构表征第47-50页
        3.3.3 含氟季铵盐抗菌硅球(SiO_2-SHx-QACFy)的抗菌性能表征第50-51页
        3.3.4 抗菌粒子在涂层中的迁移性能研究第51-56页
        3.3.5 光固化抗菌涂层性能研究第56-57页
        3.3.6 光固化涂层抗菌性能表征第57-59页
    3.4 本章小结第59-61页
第四章 结论与展望第61-62页
    4.1 结论第61页
    4.2 展望第61-62页
致谢第62-63页
参考文献第63-71页
附录:作者在攻读硕士学位期间发表的论文第71页

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