超像素调制数字光刻分辨率增强技术研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 无掩模光刻技术的发展 | 第9-13页 |
| 1.1.1 电子束光刻技术 | 第9-10页 |
| 1.1.2 离子束光刻技术 | 第10页 |
| 1.1.3 激光直写技术 | 第10-11页 |
| 1.1.4 波带片阵列光刻技术 | 第11-12页 |
| 1.1.5 数字光刻技术 | 第12-13页 |
| 1.2 光刻分辨率增强技术 | 第13-19页 |
| 1.2.1 离轴照明技术 | 第14-15页 |
| 1.2.2 光学邻近效应校正技术 | 第15-17页 |
| 1.2.3 移相掩模技术 | 第17-18页 |
| 1.2.4 数字分形掩模技术 | 第18-19页 |
| 1.3 本论文研究的主要工作 | 第19-21页 |
| 第2章 超像素调制光刻技术 | 第21-33页 |
| 2.1.引言 | 第21页 |
| 2.2 轴向超像素调制光刻方法 | 第21-25页 |
| 2.2.1 设计原理 | 第21-23页 |
| 2.2.2 仿真验证 | 第23-25页 |
| 2.3 多像素移动调制光刻方法 | 第25-31页 |
| 2.3.1 设计原理 | 第25-26页 |
| 2.3.2 ?光刻法理论 | 第26-29页 |
| 2.3.3 仿真验证 | 第29-30页 |
| 2.3.4 微透镜数字掩模设计方法 | 第30-31页 |
| 2.4 总结 | 第31-33页 |
| 第3章 超像素调制光刻系统设计 | 第33-45页 |
| 3.1 前言 | 第33-34页 |
| 3.2 超像素调制成像系统 | 第34-38页 |
| 3.2.1 数字微镜器件(DMD) | 第34-35页 |
| 3.2.2 精缩物镜 | 第35-36页 |
| 3.2.3 紫外光源曝光系统 | 第36-37页 |
| 3.2.4 超像素调制成像系统的调整 | 第37-38页 |
| 3.3 超像素调制控制系统 | 第38-41页 |
| 3.3.1 步进电机 | 第38-40页 |
| 3.3.2 超像素调制控制系统的防震措施 | 第40页 |
| 3.3.3 超像素调制控制系统的调整 | 第40-41页 |
| 3.4 超像素调制反馈系统 | 第41-43页 |
| 3.4.1 电荷耦合器件CCD | 第41-42页 |
| 3.4.2 超像素调制反馈系统的调整 | 第42-43页 |
| 3.5 本章总结 | 第43-45页 |
| 第4章 实验研究 | 第45-59页 |
| 4.1.引言 | 第45页 |
| 4.2 实验步骤及其工艺 | 第45-49页 |
| 4.2.1 基底表面预处理 | 第45-46页 |
| 4.2.2 涂胶 | 第46-47页 |
| 4.2.3 前烘 | 第47页 |
| 4.2.4 曝光 | 第47-48页 |
| 4.2.5 后烘 | 第48页 |
| 4.2.6 显影 | 第48-49页 |
| 4.2.7 观察效果 | 第49页 |
| 4.3 实验制作 | 第49-58页 |
| 4.3.1 本实验主要参数 | 第49-50页 |
| 4.3.2 轴向超像素调制光刻方法实验结果 | 第50-56页 |
| 4.3.3 多像素移动调制方法实验结果 | 第56-58页 |
| 4.4 结论 | 第58-59页 |
| 第5章 结论与展望 | 第59-62页 |
| 5.1 总结 | 第59-60页 |
| 5.2 展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
