Re(Ho,Gd,Er)-Ti-Si三元体系等温截面的实验测定
摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-15页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 相图的应用与发展 | 第12-13页 |
1.3 选题背景 | 第13-14页 |
1.4 研究内容 | 第14-15页 |
第二章 实验原理及方法 | 第15-22页 |
2.1 相图的测定方法 | 第15页 |
2.2 固溶度的测定 | 第15-16页 |
2.3 试样的制备 | 第16-18页 |
2.3.1 布点 | 第16-17页 |
2.3.2 称样 | 第17页 |
2.3.3 熔炼 | 第17页 |
2.3.4 封管 | 第17-18页 |
2.3.5 均匀化退火 | 第18页 |
2.3.6 淬火 | 第18页 |
2.4 物相分析 | 第18-22页 |
2.4.1 X射线粉末衍射 | 第19-20页 |
2.4.2 扫描电子显微镜 | 第20-21页 |
2.4.3 差热分析仪(DTA) | 第21-22页 |
第三章 Ho-Ti-Si在973 K的等温截面 | 第22-37页 |
3.1 引言 | 第22页 |
3.2 历史资料 | 第22-25页 |
3.2.1 Ho-Si二元体系 | 第22-23页 |
3.2.2 Ti-Si二元体系 | 第23-24页 |
3.2.3 Ho-Ti二元体系 | 第24-25页 |
3.2.4 Ho-Ti-Si三元体系 | 第25页 |
3.3 实验步骤 | 第25-28页 |
3.4 结果与讨论 | 第28-36页 |
3.4.1 二元化合物 | 第28-29页 |
3.4.2 三元化合物 | 第29-32页 |
3.4.3 固溶度 | 第32页 |
3.4.4 相分析 | 第32-36页 |
3.5 结论 | 第36-37页 |
第四章 Gd-Ti-Si在1073K下的等温截面 | 第37-49页 |
4.1 引言 | 第37页 |
4.2 历史资料 | 第37-41页 |
4.2.1 Gd-Si二元体系 | 第37-39页 |
4.2.2 Gd-Ti二元体系 | 第39页 |
4.2.3 Gd-Ti-Si三元体系 | 第39-41页 |
4.3 实验步骤 | 第41页 |
4.4 结果与讨论 | 第41-48页 |
4.4.1 相分析 | 第41-42页 |
4.4.2 固溶度 | 第42-47页 |
4.4.3 三元化合物 | 第47-48页 |
4.5 结论 | 第48-49页 |
第五章 Er-Ti-Si在1273K的等温截面 | 第49-60页 |
5.1 引文 | 第49页 |
5.2 历史资料 | 第49-52页 |
5.2.1 Er-Si二元体系 | 第49-51页 |
5.2.2 Er-Ti二元体系 | 第51页 |
5.2.3 Er-Ti-Si三元体系 | 第51-52页 |
5.3 实验步骤 | 第52页 |
5.4 结果与讨论 | 第52-59页 |
5.4.1 二元系 | 第52-53页 |
5.4.2 固溶度 | 第53-57页 |
5.4.3 相分析 | 第57-59页 |
5.5 结论 | 第59-60页 |
第六章 总结 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
研究生期间发表的论文 | 第68页 |