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Ⅱ-Ⅵ族半导体纳米晶—聚合物复合结构的构筑及光学性质的调控

提要第1-8页
第一章 绪论第8-33页
 第一节 纳米微粒与纳米晶第9-14页
     ·量子尺寸效应第9-12页
     ·量子效率第12页
     ·半导体纳米晶的荧光性质及荧光共振能量转移(FRET)第12-14页
 第二节 纳米晶的合成方法第14-22页
     ·有机金属法第15-17页
     ·有机“绿色化学”法第17-18页
     ·巯基水相法第18-20页
     ·以聚合物为配体合成纳米晶第20-22页
 第三节 纳米晶的生长机制第22-25页
     ·OR 生长第23页
     ·碰撞生长第23-24页
     ·Smoluchowski(斯莫鲁科夫斯基)模型第24-25页
 第四节 基于纳米晶的光电器件第25-29页
     ·太阳能电池第25-28页
     ·DNA 检测器件第28-29页
 第五节 聚合物的链运动第29-32页
     ·自由体积理论第30页
     ·聚合物摩尔质量对T_g 的影响第30-31页
     ·聚合物链交联对T_g 的影响第31-32页
 第六节 本论文的选题及设计思路第32-33页
第二章 利用up-to-down的方法构筑CdTe纳米晶-PLA荧光纳米线第33-52页
 第一节 实验部分第34-36页
     ·实验试剂第34页
     ·测试仪器第34页
     ·样品合成第34-35页
     ·CdTe 纳米晶的相转移第35页
     ·CdTe 纳米晶-聚乳酸(聚乳酸与聚苯乙烯混合物)纳米纤维的制备第35-36页
     ·纳米纤维的刻蚀第36页
 第二节 对纯PLA纳米纤维的刻蚀第36-42页
     ·刻蚀时间的影响第36-40页
     ·结晶温度的影响第40-41页
     ·乙二胺浓度的影响第41-42页
 第三节 对掺有CdTe纳米晶的电纺丝膜进行刻蚀第42-50页
     ·CdTe 纳米晶的表征第43-44页
     ·CdTe 纳米晶-PLA 电纺丝膜的刻蚀第44-46页
     ·用乙二胺将CdTe 纳米晶-PLA& PS 电纺丝膜的刻蚀第46-48页
     ·用NaOH 将CdTe 纳米晶-PLA&PS 电纺丝膜的刻蚀第48-50页
 第四节 本章小结第50-52页
第三章 利用聚合物基质调节纳米晶生长第52-74页
 第一节 实验部分第53-55页
     ·实验试剂第53页
     ·测试仪器第53-54页
     ·样品合成第54页
     ·CdTe 纳米晶的相转移第54页
     ·聚合物膜的制备以及热处理第54-55页
 第二节 CdTe纳米晶合成条件对其在复合膜中生长的影响第55-73页
     ·CdTe 纳米晶合成条件的影响第60-63页
       ·配体影响第60-61页
       ·Cd~(2+)与MPA 比例影响第61-62页
       ·温度影响第62-63页
     ·聚合物基底种类的影响第63-73页
       ·重复单元的影响第64-68页
       ·分子链结构的影响第68-73页
 第三节 本章小结第73-74页
参考文献第74-86页
致谢第86-87页
摘要第87-90页
Abstract第90-91页

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