| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 课题背景 | 第9-10页 |
| 1.2 碳化硅纳米线概述 | 第10-19页 |
| 1.2.1 碳化硅纳米线的制备 | 第11-16页 |
| 1.2.2 碳化硅纳米线的性能 | 第16-19页 |
| 1.3 碳纳米管的概述 | 第19-23页 |
| 1.3.1 碳纳米管的制备方法 | 第19-21页 |
| 1.3.2 碳纳米管的性能 | 第21-23页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第23-25页 |
| 1.4.1 研究的目的与意义 | 第23-24页 |
| 1.4.2 主要研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 材料制备及表征方法 | 第25-38页 |
| 2.1 实验材料及设备 | 第25-27页 |
| 2.2 实验方法及原理 | 第27-30页 |
| 2.2.1 实验方法 | 第27-28页 |
| 2.2.2 生长机理 | 第28-30页 |
| 2.3 表征方法及原理 | 第30-38页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第30-31页 |
| 2.3.2 透射电子显微镜(TEM) | 第31-33页 |
| 2.3.3 拉曼光谱仪(Raman) | 第33页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第33-34页 |
| 2.3.5 X射线衍射仪(XRD) | 第34-35页 |
| 2.3.6 台阶仪 | 第35-36页 |
| 2.3.7 霍尔效应 | 第36页 |
| 2.3.8 润湿角测量仪 | 第36页 |
| 2.3.9 光致发光谱(PL) | 第36-38页 |
| 第3章 碳化硅纳米线/碳纳米管复合薄膜的成分及微结构 | 第38-57页 |
| 3.1 场发射扫描电镜形貌分析 | 第38-46页 |
| 3.1.1 催化金属厚度对复合薄膜表面形貌的影响 | 第38-42页 |
| 3.1.2 冷却速率对复合薄膜表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| 3.1.3 保温时间对复合薄膜表面形貌的影响 | 第43-44页 |
| 3.1.4 退火温度对复合薄膜表面形貌的影响 | 第44-46页 |
| 3.2 透射电镜分析 | 第46-48页 |
| 3.3 拉曼光谱分析 | 第48-51页 |
| 3.4 X射线光电子能谱分析 | 第51-54页 |
| 3.4.1 保温时间对复合薄膜氧含量的影响 | 第52页 |
| 3.4.2 退火温度对复合薄膜氧含量的影响 | 第52-53页 |
| 3.4.3 冷却速率对复合薄膜氧含量的影响 | 第53-54页 |
| 3.5 X射线衍射仪分析 | 第54-55页 |
| 3.6 本章小结 | 第55-57页 |
| 第4章 碳化硅纳米线/碳纳米管复合薄膜的性能研究 | 第57-66页 |
| 4.1 润湿性 | 第57-62页 |
| 4.2 光致发光特性 | 第62-64页 |
| 4.3 霍尔效应 | 第64页 |
| 4.4 本章小节 | 第64-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-75页 |
| 致谢 | 第75页 |