| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 ZnO 的基本性质 | 第10-14页 |
| 1.1.1 ZnO 的基本性质 | 第10页 |
| 1.1.2 晶体结构 | 第10-12页 |
| 1.1.3 能带结构 | 第12页 |
| 1.1.4 电学性质 | 第12-13页 |
| 1.1.5 光学性质 | 第13-14页 |
| 1.2 ZnO 纳米材料的制备方法 | 第14-15页 |
| 1.2.1 分子束外延 (MBE) | 第14页 |
| 1.2.2 脉冲激光沉积 (PLD) | 第14页 |
| 1.2.3 磁控溅射 | 第14页 |
| 1.2.4 化学气相沉积 (CVD) | 第14-15页 |
| 1.2.5 喷雾热解法 | 第15页 |
| 1.2.6 水热法 | 第15页 |
| 1.3 ZnO 纳米材料的应用 | 第15-17页 |
| 1.3.1 光电器件的应用 | 第15-16页 |
| 1.3.2 光伏器件的应用 | 第16页 |
| 1.3.3 表面声波器件的应用 | 第16页 |
| 1.3.4 气敏、压敏器件的应用 | 第16-17页 |
| 1.4 ZnO 纳米结构的形貌 | 第17-18页 |
| 1.5 ZnO 纳米材料的研究进展 | 第18-19页 |
| 1.6 本论文研究内容 | 第19-20页 |
| 2 实验部分 | 第20-24页 |
| 2.1 水热法基本原理 | 第20页 |
| 2.2 实验仪器及药品 | 第20-21页 |
| 2.2.1 实验药品 | 第20-21页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第21页 |
| 2.3 表征技术 | 第21-24页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜 (SEM) | 第21-22页 |
| 2.3.2 光致发光谱 (PL) | 第22-23页 |
| 2.3.3 X-射线衍射 (XRD) | 第23-24页 |
| 3 在 Si 衬底上生长有序的 ZnO 纳米棒及分析 | 第24-34页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 样品的制备 | 第24-25页 |
| 3.2.1 晶种层的制备 | 第24-25页 |
| 3.2.2 ZnO 纳米棒的制备 | 第25页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第25-32页 |
| 3.3.1 ZnO 纳米棒的结构与形貌分析 | 第25-30页 |
| 3.3.2 ZnO 纳米棒的光学性质 | 第30-32页 |
| 3.3.3 ZnO 纳米棒的 XRD 测试 | 第32页 |
| 3.4 ZnO 纳米棒的生长机理 | 第32-33页 |
| 3.5 小结 | 第33-34页 |
| 4 FTO 衬底上水热生长高度有序 ZnO 纳米锥 | 第34-41页 |
| 4.1 引言 | 第34页 |
| 4.2 实验过程和样品的制备 | 第34-35页 |
| 4.2.1 衬底的清洗 | 第34-35页 |
| 4.2.2 晶种层的制备 | 第35页 |
| 4.2.3 一次水热 | 第35页 |
| 4.2.4 二次水热 | 第35页 |
| 4.3 实验结果和分析 | 第35-40页 |
| 4.3.1 ZnO 纳米锥的 SEM 表征 | 第35-39页 |
| 4.3.2 ZnO 纳米锥的 XRD 测试 | 第39页 |
| 4.3.3 ZnO 纳米锥的光学性质 | 第39-40页 |
| 4.4 小结 | 第40-41页 |
| 5 FTO 衬底一步水热法生长无序 ZnO 纳米棒 | 第41-46页 |
| 5.1 引言 | 第41页 |
| 5.2 实验过程 | 第41页 |
| 5.2.1 晶种层的制备 | 第41页 |
| 5.2.2 水热生长 | 第41页 |
| 5.3 结果和分析 | 第41-44页 |
| 5.3.1 ZnO 纳米棒阵列的 SEM 表征 | 第42-43页 |
| 5.3.2 ZnO 纳米棒阵列的光学性质 | 第43-44页 |
| 5.4 生长液中 PEI 和氨水的研究 | 第44-45页 |
| 5.5 小结 | 第45-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
