不同抛光工具对威兰德氧化锆抛光后表面性能的影响
摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
缩略词表 | 第10-11页 |
前言 | 第11-15页 |
材料与方法 | 第15-19页 |
1.1 实验材料和仪器 | 第15-16页 |
1.2 试验方法 | 第16-19页 |
1.2.1 试件制作 | 第16页 |
1.2.2 表面处理 | 第16-17页 |
1.2.3 粗糙度测定 | 第17-18页 |
1.2.4 扫描电镜(SEM)观察 | 第18页 |
1.2.5 XRD测量 | 第18页 |
1.2.6 维氏硬度测量 | 第18页 |
1.2.7 统计学分析 | 第18-19页 |
结果 | 第19-24页 |
2.1 表面粗糙度值 | 第19-20页 |
2.2 扫描电镜(SEM)的观察 | 第20-21页 |
2.3 XRD测量结果 | 第21-23页 |
2.4 显微维氏硬度测量 | 第23-24页 |
讨论 | 第24-32页 |
3.1 实验设计方面 | 第24-27页 |
3.1.1 威兰德氧化锆 | 第24页 |
3.1.2 氧化锆抛光工具的选择 | 第24-25页 |
3.1.3 维氏硬度选择 | 第25-26页 |
3.1.4 抛光条件的控制 | 第26-27页 |
3.2 实验结果方面 | 第27-30页 |
3.2.1 表面形貌 | 第27-29页 |
3.2.2 XRD结果分析 | 第29页 |
3.2.3 维氏硬度 | 第29-30页 |
3.3 不足与展望 | 第30-32页 |
结论 | 第32-33页 |
参考文献 | 第33-39页 |
综述 | 第39-56页 |
参考文献 | 第50-56页 |
附图 | 第56-59页 |
个人简历及攻读硕士期间发表论文情况 | 第59-60页 |
致谢 | 第60页 |