摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-13页 |
第1章 绪论 | 第13-38页 |
·碳纳米管 | 第13-32页 |
·碳纳米管的结构和分类 | 第13-15页 |
·碳纳米管的制备方法 | 第15-19页 |
·化学气相沉积法 | 第16-17页 |
·电弧放电法 | 第17页 |
·激光蒸发法 | 第17-18页 |
·火焰法 | 第18-19页 |
·碳纳米管的纯化 | 第19-22页 |
·物理纯化法 | 第20-21页 |
·化学纯化法 | 第21-22页 |
·碳纳米管的生长机理 | 第22-26页 |
·CVD法制备碳纳米管的生长机理 | 第23-24页 |
·电弧法制备碳纳米管的生长机理 | 第24-25页 |
·激光蒸发法制备碳纳米管的生长机理 | 第25页 |
·火焰法制备碳纳米管的生长机理 | 第25-26页 |
·碳纳米管的性能 | 第26-30页 |
·碳纳米管的力学性能 | 第26-27页 |
·碳纳米管的电学性能 | 第27页 |
·碳纳米管的热学性能 | 第27-28页 |
·碳纳米管的光学性能 | 第28页 |
·碳纳米管的场发射性能 | 第28-29页 |
·碳纳米管的自组织性能 | 第29页 |
·碳纳米管的其他性能 | 第29-30页 |
·碳纳米管的应用 | 第30-32页 |
·碳纳米管化学修饰电极 | 第32-37页 |
·化学修饰电极的发展 | 第32-33页 |
·碳纳米管化学修饰电极的分类 | 第33-35页 |
·碳纳米管化学修饰电极制备方法 | 第35-36页 |
·碳纳米管化学修饰电极的表征 | 第36-37页 |
·本论文的主要工作 | 第37-38页 |
第2章 化学气相沉积法制备原位生长碳纳米管化学修饰电极 | 第38-50页 |
·实验 | 第38-41页 |
·实验仪器和试剂 | 第38-40页 |
·GSCNT-CME的制备 | 第40-41页 |
·直流电电化学沉积金属镍 | 第40页 |
·浸渍法沉积金属镍 | 第40-41页 |
·结果与讨论 | 第41-49页 |
·电沉积电压对GSCNT-CME电化学检测性能的影响 | 第41-43页 |
·电沉积时间对GSCNT-CME电化学检测性能的影响 | 第43-45页 |
·直流电电化学沉积催化剂前后的石墨电极表面形貌 | 第45-46页 |
·GSCNT-CME的表面结构 | 第46-47页 |
·直流电电化学沉积方法所得GSCNT-CME的电化学检测性能 | 第47-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第3章 火焰法制备原位生长碳纳米管化学修饰电极 | 第50-64页 |
·实验 | 第50-53页 |
·实验仪器和实验试剂 | 第50-52页 |
·石墨电极表面电沉积催化剂 | 第52页 |
·GSCNT-CME的制备 | 第52-53页 |
·结果与讨论 | 第53-63页 |
·修饰电极制备条件的优化 | 第53-62页 |
·电沉积电流大小对GSCNT-CME性能的影响 | 第53-55页 |
·电沉积时间的长短对修饰电极性能的影响 | 第55-56页 |
·电沉积催化剂镍前后石墨电极表面形貌的表征 | 第56-57页 |
·石墨电极表面沉积Ni后的XRD图谱 | 第57-58页 |
·火焰中生长时间对修饰电极性能的影响 | 第58-60页 |
·在最优条件下制备的GSCNT-CME表面的SEM表征 | 第60页 |
·在最优条件下制备的修饰电极表面的CNT的TEM表征 | 第60-61页 |
·酸处理对GSCNT-CME电化学性能的影响 | 第61-62页 |
·GSCNT-CME的电化学性能的表征 | 第62-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
第4章 原位生长碳纳米管化学修饰电极检测Cu~(2+) | 第64-73页 |
·实验 | 第64-66页 |
·实验仪器及试剂 | 第64-66页 |
·GSCNT-CME的制备 | 第66页 |
·结果及讨论 | 第66-72页 |
·支持电解质和溶液PH的选择 | 第66-67页 |
·GSCNT-CME对Cu~(2+)的电化学敏感性 | 第67-68页 |
·扫描速率的影响 | 第68-69页 |
·线性范围与检出限 | 第69-70页 |
·其他金属离子对Cu~(2+)检测的影响 | 第70-71页 |
·样品分析及回收率 | 第71-72页 |
·本章小结 | 第72-73页 |
结论 | 第73-74页 |
致谢 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-86页 |
攻读硕士期间发表的论文及科研成果 | 第86-87页 |