| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 光伏产业的优势及发展 | 第10-11页 |
| 1.2 太阳能电池的种类 | 第11-14页 |
| 1.2.1 硅太阳能电池 | 第12页 |
| 1.2.2 多元化合物薄膜太阳能电池 | 第12-13页 |
| 1.2.3 有机物太阳能电池 | 第13页 |
| 1.2.4 纳米晶化学太阳能电池 | 第13-14页 |
| 1.3 多晶硅的生产制备工艺 | 第14-17页 |
| 1.3.1 西门子法 | 第14-15页 |
| 1.3.2 硅烷法 | 第15-16页 |
| 1.3.3 流化床法 | 第16页 |
| 1.3.4 冶金法 | 第16页 |
| 1.3.5 汽-液沉积法 | 第16-17页 |
| 1.3.6 区域熔化提纯法 | 第17页 |
| 1.3.7 无氯技术 | 第17页 |
| 1.4 定向凝固 | 第17-18页 |
| 1.5 涂层制备工艺 | 第18-20页 |
| 1.5.1 早期涂层材料的选择 | 第18-19页 |
| 1.5.2 Si_3N_4涂层的制备工艺 | 第19-20页 |
| 1.5.2.1 常压化学气相沉积法制备 Si_3N_4涂层 | 第19页 |
| 1.5.2.2 溶胶凝胶法制备纳米粒子/Si_3N_4硬质涂层 | 第19-20页 |
| 1.6 本实验的意义及研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 实验内容与表征 | 第21-25页 |
| 2.1 实验内容 | 第21-23页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第21-22页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第22页 |
| 2.1.3 实验方法 | 第22-23页 |
| 2.2 表征方法 | 第23-25页 |
| 2.2.1 扫描电镜分析(SEM) | 第23页 |
| 2.2.2 X 射线衍射分析(XRD) | 第23页 |
| 2.2.3 结合强度测试 | 第23-24页 |
| 2.2.4 傅里叶红外光谱测试(FTIR) | 第24-25页 |
| 第三章 Si_3N_4涂层 | 第25-33页 |
| 3.1 实验内容 | 第25-28页 |
| 3.1.1 分散相 Si_3N_4的性质及表征 | 第25-26页 |
| 3.1.1.1 Si_3N_4的性质 | 第25页 |
| 3.1.1.2 Si_3N_4的表征 | 第25-26页 |
| 3.1.2 分散介质的选择 | 第26-27页 |
| 3.1.2.1 聚乙烯醇(PVA)的性质 | 第26-27页 |
| 3.1.2.2 聚乙烯吡咯烷酮(PVP)的性质 | 第27页 |
| 3.1.3 实验步骤 | 第27-28页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第28-32页 |
| 3.2.1 有机分散介质对浆料铺展性及稳定性的影响 | 第28-30页 |
| 3.2.2 涂层预处理后结合状态变化 | 第30-31页 |
| 3.2.3 涂层高温气氛处理后结合状态变化 | 第31-32页 |
| 3.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 Si_3N_4/纳米 SiO_2复合涂层 | 第33-48页 |
| 4.1 实验内容 | 第33-36页 |
| 4.1.1 实验设计 | 第33-34页 |
| 4.1.2 原料纳米 SiO_2的性能及表征 | 第34-36页 |
| 4.1.2.1 纳米 SiO_2的性能 | 第34页 |
| 4.1.2.2 纳米 SiO_2的表征 | 第34-36页 |
| 4.1.3 实验步骤 | 第36页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第36-47页 |
| 4.2.1 刷涂于不同基底的 Si_3N_4涂层 | 第36-42页 |
| 4.2.1.1 Si_3N_4浆料对于不同基底的渗透作用 | 第36-38页 |
| 4.2.1.2 涂层预处理后的相变化 | 第38-39页 |
| 4.2.1.3 涂层预处理后的结合状态及强度变化 | 第39-40页 |
| 4.2.1.4 涂层高温气氛处理后的相变化 | 第40-41页 |
| 4.2.1.5 涂层高温气氛处理后的结合状态及强度变化 | 第41-42页 |
| 4.2.2 刷涂于未烧结基底的 Si_3N_4/不同含量纳米 SiO_2涂层 | 第42-47页 |
| 4.2.2.1 不同纳米 SiO_2含量浆料对于未烧结坯体的渗透速率 | 第42-43页 |
| 4.2.2.2 涂层预处理后的相变化 | 第43-44页 |
| 4.2.2.3 涂层预处理后的结合状态及强度变化 | 第44-45页 |
| 4.2.2.4 涂层高温气氛处理后的相变化 | 第45页 |
| 4.2.2.5 涂层高温气氛处理后的结合状态及强度变化 | 第45-47页 |
| 4.3 本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 Si_3N_4/纳米 SiO_2/B 复合涂层 | 第48-55页 |
| 5.1 实验内容 | 第49-50页 |
| 5.1.1 实验设计 | 第49页 |
| 5.1.2 H_3BO_3的性质 | 第49页 |
| 5.1.3 实验步骤 | 第49-50页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第50-54页 |
| 5.2.1 Si_3N_4/B 复合涂层 | 第50-52页 |
| 5.2.1.1 涂层预处理后的相变化 | 第50-51页 |
| 5.2.1.2 涂层预处理后的内部状态及结合强度变化 | 第51-52页 |
| 5.2.2 Si_3N_4/纳米 SiO_2/B 复合涂层 | 第52-54页 |
| 5.2.2.1 涂层预处理后的相变化 | 第53页 |
| 5.2.2.2 涂层预处理后的内部状态及结合强度变化 | 第53-54页 |
| 5.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 全文结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
