| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 GaAs 基多结太阳电池及其发展 | 第9-14页 |
| 1.1.1 GaAs 基多结太阳电池的基本原理 | 第10-11页 |
| 1.1.2 GaAs 基多结太阳电池的发展 | 第11-14页 |
| 1.2 减反射膜在 GaAs 基多结太阳电池中的应用及发展 | 第14-17页 |
| 1.2.1 多结电池减反射膜的研究现状 | 第15-17页 |
| 1.2.2 多结电池减反射膜的发展方向 | 第17页 |
| 1.3 本文的选题意义及研究内容 | 第17-18页 |
| 1.4 本章小结 | 第18-19页 |
| 第2章 减反射膜的设计理论基础 | 第19-28页 |
| 2.1 光学薄膜的电磁场理论 | 第19-24页 |
| 2.1.1 折射率 | 第20页 |
| 2.1.2 光学导纳 | 第20-21页 |
| 2.1.3 菲涅尔公式 | 第21-24页 |
| 2.2 减反射膜原理及相关计算 | 第24-27页 |
| 2.2.1 单层膜的减反射原理及相关计算 | 第25-26页 |
| 2.2.2 多层膜的减反射原理及相关计算 | 第26-27页 |
| 2.3 本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 减反射膜系的设计及优化 | 第28-38页 |
| 3.1 减反射材料的选择 | 第28-30页 |
| 3.2 基于 TFC 软件多层减反射膜的优化设计 | 第30-37页 |
| 3.2.1 设计理论 | 第30-32页 |
| 3.2.2 多层减反射膜的优化结果与讨论 | 第32-37页 |
| 3.2.2.1 不同窗口层下层厚度下的 Re | 第34页 |
| 3.2.2.2 材料折射率变化对膜系 Re的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.2.3 膜层厚度改变对膜系 Re 的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.2.4 入射角度的变化对 Re的影响 | 第36-37页 |
| 3.3 本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 减反射膜的制备及性能分析 | 第38-58页 |
| 4.1 薄膜制备方法的选择 | 第38-40页 |
| 4.2 实验设备简述 | 第40-41页 |
| 4.3 实验工艺流程 | 第41-42页 |
| 4.4 单层减反射膜的制备与性能分析 | 第42-52页 |
| 4.4.1 SiO_2与 TiO_2单层膜的制备与性能分析 | 第42-47页 |
| 4.4.1.1 电子束流大小对 SiO_2和 TiO_2单层膜折射率的影响 | 第43-44页 |
| 4.4.1.2 基片温度对 SiO_2和 TiO_2单层膜折射率的影响 | 第44-45页 |
| 4.4.1.3 充氧量对 SiO_2和 TiO_2单层膜折射率的影响 | 第45-47页 |
| 4.4.2 ZnS 单层膜的制备与性能分析 | 第47-52页 |
| 4.4.2.1 XRD 对物相结构的表征 | 第48-49页 |
| 4.4.2.2 微结构参数的理论计算 | 第49-51页 |
| 4.4.2.3 基片温度对 ZnS 单层膜折射率的影响 | 第51-52页 |
| 4.5 多层减反射膜的制备与性能分析 | 第52-56页 |
| 4.5.1 SiO_2/TiO_2双层减反射膜的制备与性能分析 | 第53-54页 |
| 4.5.2 ZnS/Al_2O_3/MgF_2三层减反射膜的制备与性能分析 | 第54-56页 |
| 4.5.3 ZnS/MgF_2/ZnS/MgF_2四层减反射膜的制备与性能分析 | 第56页 |
| 4.6 本章小结 | 第56-58页 |
| 第5章 总结与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 主要结论 | 第58-59页 |
| 5.2 存在的问题及后续工作 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和研究成果 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
