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多晶硅生产废水中氯离子的去除研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第1章 引言第9-13页
    1.1 资源趋势第9-10页
    1.2 多晶硅性质及主要生产工艺第10-13页
        1.2.1 硅烷法第10页
        1.2.2 冶金法第10-11页
        1.2.3 改良西门子法第11-13页
第2章 文献综述第13-25页
    2.1 氯离子的危害第13-14页
    2.2 多晶硅生产中废水的来源与特点第14-15页
        2.2.1 多晶硅系统废水来源第14页
        2.2.2 多晶硅系统废水排放特点第14-15页
    2.3 多晶硅系统生产废水处理方法第15页
    2.4 国家及地方对废水排放的相关法律法规及政策第15-17页
    2.5 常用的去除氯离子的方法第17-21页
        2.5.1 离子交换法第18页
        2.5.2 蒸馏法第18-19页
        2.5.3 膜分离法第19-20页
        2.5.4 沉淀法第20-21页
        2.5.5 冷冻法第21页
    2.6 超高石灰铝法第21-24页
    2.7 课题研究的内容与意义第24-25页
第3章 研究方案与实验材料第25-31页
    3.1 研究内容第25-26页
    3.2 研究方法第26-27页
        3.2.1 实验研究方法第26页
        3.2.2 水质分析方法第26-27页
        3.2.3 实验操作第27页
    3.3 实验材料第27-31页
        3.3.1 实验仪器及设备第27-28页
        3.3.2 实验药品第28页
        3.3.3 试剂及药品的物理化学性质第28-31页
第4章 实验结果与讨论第31-45页
    4.1 药剂投加方式的确定第31-33页
    4.2 药剂配比实验第33-36页
        4.2.1 氢氧化钙、偏铝酸钠不同配比对氯离子去除率的影响第33-35页
        4.2.2 氢氧化钙、氯离子配比不同对氯离子去除率的影响第35-36页
    4.3 反应时间对氯离子去除率的影响(以下配比均为摩尔比)第36-38页
    4.4 反应过程中pH的变化(以下配比均为摩尔比)第38-39页
    4.5 氯离子初始浓度不同对氯离子去除率的影响第39-41页
    4.6 药剂投加位置对氯离子去除率的影响第41-42页
    4.7 超高石灰铝法对废水中氟离子的去除效果第42-43页
    4.8 本章小结第43-45页
第5章 结论及展望第45-47页
    5.1 结论第45页
    5.2 展望第45-47页
参考文献第47-50页
发表论文和参加科研情况说明第50-51页
致谢第51页

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