摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 引言 | 第9-13页 |
1.1 资源趋势 | 第9-10页 |
1.2 多晶硅性质及主要生产工艺 | 第10-13页 |
1.2.1 硅烷法 | 第10页 |
1.2.2 冶金法 | 第10-11页 |
1.2.3 改良西门子法 | 第11-13页 |
第2章 文献综述 | 第13-25页 |
2.1 氯离子的危害 | 第13-14页 |
2.2 多晶硅生产中废水的来源与特点 | 第14-15页 |
2.2.1 多晶硅系统废水来源 | 第14页 |
2.2.2 多晶硅系统废水排放特点 | 第14-15页 |
2.3 多晶硅系统生产废水处理方法 | 第15页 |
2.4 国家及地方对废水排放的相关法律法规及政策 | 第15-17页 |
2.5 常用的去除氯离子的方法 | 第17-21页 |
2.5.1 离子交换法 | 第18页 |
2.5.2 蒸馏法 | 第18-19页 |
2.5.3 膜分离法 | 第19-20页 |
2.5.4 沉淀法 | 第20-21页 |
2.5.5 冷冻法 | 第21页 |
2.6 超高石灰铝法 | 第21-24页 |
2.7 课题研究的内容与意义 | 第24-25页 |
第3章 研究方案与实验材料 | 第25-31页 |
3.1 研究内容 | 第25-26页 |
3.2 研究方法 | 第26-27页 |
3.2.1 实验研究方法 | 第26页 |
3.2.2 水质分析方法 | 第26-27页 |
3.2.3 实验操作 | 第27页 |
3.3 实验材料 | 第27-31页 |
3.3.1 实验仪器及设备 | 第27-28页 |
3.3.2 实验药品 | 第28页 |
3.3.3 试剂及药品的物理化学性质 | 第28-31页 |
第4章 实验结果与讨论 | 第31-45页 |
4.1 药剂投加方式的确定 | 第31-33页 |
4.2 药剂配比实验 | 第33-36页 |
4.2.1 氢氧化钙、偏铝酸钠不同配比对氯离子去除率的影响 | 第33-35页 |
4.2.2 氢氧化钙、氯离子配比不同对氯离子去除率的影响 | 第35-36页 |
4.3 反应时间对氯离子去除率的影响(以下配比均为摩尔比) | 第36-38页 |
4.4 反应过程中pH的变化(以下配比均为摩尔比) | 第38-39页 |
4.5 氯离子初始浓度不同对氯离子去除率的影响 | 第39-41页 |
4.6 药剂投加位置对氯离子去除率的影响 | 第41-42页 |
4.7 超高石灰铝法对废水中氟离子的去除效果 | 第42-43页 |
4.8 本章小结 | 第43-45页 |
第5章 结论及展望 | 第45-47页 |
5.1 结论 | 第45页 |
5.2 展望 | 第45-47页 |
参考文献 | 第47-50页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第50-51页 |
致谢 | 第51页 |