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低能电子致高Z原子L、M壳层X射线产生截面的测量研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
第1章 引言第10-20页
    1.1 电子与物质的相互作用第10-11页
    1.2 电子致原子内壳层电离截面测量的背景和拟研究目标第11-20页
        1.2.1 研究目的第11-15页
        1.2.2 研究的历史及现状第15-18页
        1.2.3 拟研究目标第18-20页
第2章 PENELOPE软件和蒙卡模拟方法第20-30页
    2.1 Monte Carlo方法和软件介绍第20-22页
        2.1.1 Monte Carlo方法特点第20-21页
        2.1.2 通用Monte Carlo软件比较第21-22页
    2.2 PENELOPE软件介绍第22-23页
    2.3 PENELOPE软件应用第23-30页
        2.3.1 数据库中原子参数提取第24-28页
        2.3.2 电离截面数据库替换第28-30页
第3章 低能电子致原子内壳层电离截面测量第30-43页
    3.1 实验装置平台第30-32页
        3.1.1 束流积分仪的线性第31页
        3.1.2 束流强度控制第31页
        3.1.3 SDD探测器第31-32页
    3.2 提高测量精度的技术方法第32-40页
        3.2.1 获取特征峰净计数第32页
        3.2.2 SDD探测器的效率刻度第32-35页
        3.2.3 电离截面测量值的修正计算第35-39页
        3.2.4 靶膜厚度第39-40页
    3.3 实验值的获取及误差分析第40-43页
        3.3.1 实验值的获取第40-41页
        3.3.2 误差分析第41-43页
第4章 实验结果及分析第43-50页
    4.1 L层特征X射线产生截面值第43-46页
    4.2 M_(αβ)X射线产生截面值第46-50页
第5章 结论与展望第50-52页
    5.1 结论第50-51页
    5.2 展望第51-52页
参考文献第52-55页
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果第55-56页
致谢第56页

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