| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第12-44页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-14页 |
| 1.1.1 量子计算简介 | 第12-13页 |
| 1.1.2 基于半导体量子点的量子计算 | 第13-14页 |
| 1.2 半导体量子点简介 | 第14-34页 |
| 1.2.1 门控量子点 | 第14-15页 |
| 1.2.2 单量子点的基本理论：常相互作用模型 | 第15-22页 |
| 1.2.3 双量子点基本理论 | 第22-29页 |
| 1.2.4 本文涉及到的一些与量子点相关的概念 | 第29-34页 |
| 1.3 本章小结及本文提纲 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-44页 |
| 第2章 样品加工及低温测量 | 第44-80页 |
| 2.1 微纳加工工艺及仪器 | 第44-73页 |
| 2.1.1 微纳加工仪器简介 | 第44-53页 |
| 2.1.2 二维类石墨烯层状材料量子点加工基本流程 | 第53-73页 |
| 2.2 低温平台及测量系统 | 第73-78页 |
| 2.2.1 液氦中的初测 | 第74-76页 |
| 2.2.2 He3制冷机 | 第76-78页 |
| 2.3 本章小结 | 第78-80页 |
| 第3章 石墨烯刻蚀量子点及悬浮石墨烯器件噪声测量 | 第80-110页 |
| 3.1 石墨烯概述 | 第80-85页 |
| 3.2 石墨烯量子点 | 第85-89页 |
| 3.3 悬浮石墨烯器件噪声测量 | 第89-101页 |
| 3.3.1 引言 | 第89-90页 |
| 3.3.2 悬浮石墨烯样品的制备 | 第90-93页 |
| 3.3.3 悬浮石墨烯器件的噪声测量 | 第93-99页 |
| 3.3.4 悬浮石墨烯器件噪声实验的结果分析 | 第99-101页 |
| 3.4 本章小结 | 第101-104页 |
| 参考文献 | 第104-110页 |
| 第4章 过渡金属二硫化物上量子点的研究 | 第110-144页 |
| 4.1 过渡金属二硫化物概述 | 第110-116页 |
| 4.2 过渡金属二硫化物场效应晶体管 | 第116-120页 |
| 4.3 硒化钨门控量子点 | 第120-129页 |
| 4.4 硫化钨量子点中的库仑振荡研究 | 第129-136页 |
| 4.5 本章小结 | 第136-138页 |
| 参考文献 | 第138-144页 |
| 第5章 总结与展望 | 第144-154页 |
| 5.1 总结 | 第144-146页 |
| 5.2 展望 | 第146-150页 |
| 参考文献 | 第150-154页 |
| 致谢 | 第154-156页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第156-157页 |