学位论文主要创新点 | 第3-4页 |
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 前言 | 第9-25页 |
1.1 我国盐化工产业简介 | 第9-12页 |
1.1.1 纯碱生产工艺发展历程 | 第9-12页 |
1.2 纯碱工艺中盐水精制传统工艺 | 第12-15页 |
1.2.1 氨碱法传统盐水精制法 | 第13-14页 |
1.2.2 联合制碱法传统盐水精制法 | 第14-15页 |
1.2.3 纯碱制碱法盐水精制法弊端及创新 | 第15页 |
1.3 膜分离技术 | 第15-18页 |
1.3.1 膜分离过程特点 | 第16页 |
1.3.2 膜分离过程分类 | 第16-18页 |
1.4 膜分离技术在盐化工行业中的应用 | 第18-20页 |
1.4.1 膜技术在氯碱行业中的应用 | 第18-20页 |
1.4.1.1 HVM~(TM)管式膜过滤技术 | 第18-20页 |
1.4.2 膜分离技术在卤水精制中的应用 | 第20页 |
1.5 连续膜过滤技术 | 第20-21页 |
1.5.1 连续膜过滤工艺简介 | 第20-21页 |
1.5.2 连续膜过滤工艺的优势及特点 | 第21页 |
1.6 超滤膜的污染与防控 | 第21-23页 |
1.6.1 膜污染简述 | 第21-22页 |
1.6.2 膜污染的防控方法 | 第22-23页 |
1.7 课题研究目的和意义 | 第23-24页 |
1.8 课题研究内容 | 第24-25页 |
第二章 试验装置与方法 | 第25-31页 |
2.1 中试工艺流程 | 第25页 |
2.2 连续膜过滤超滤装置 | 第25-27页 |
2.3 试验方案 | 第27页 |
2.4 分析项目及方法 | 第27-28页 |
2.4.1 试验水质 | 第27-28页 |
2.4.2 分析方法 | 第28页 |
2.4.3 试验仪器 | 第28页 |
2.5 其他参数及其计算方法 | 第28-31页 |
第三章 试验工艺优化 | 第31-41页 |
3.1 不同工况下CMF运行情况 | 第31-33页 |
3.1.1 工况一下TP的变化趋势 | 第31-32页 |
3.1.2 工况二下TMP的变化趋势 | 第32-33页 |
3.2 不同工况下膜比通量及温度校正通量变化趋势 | 第33-35页 |
3.2.1 工况一下膜比通量及温度校正通量的变化趋势 | 第33-34页 |
3.2.2 工况二下膜比通量及温度校正通量的变化趋势 | 第34-35页 |
3.3 不同工况下水回收率的情况 | 第35-36页 |
3.4 CMF工艺运行效果分析 | 第36-38页 |
3.4.1 CMF工艺对浊度的去除效果 | 第36-37页 |
3.4.2 CMF工艺出水的SDI_(15)变化趋势 | 第37页 |
3.4.3 CMF工艺对TOC的去除效果 | 第37-38页 |
3.5 本章小结 | 第38-41页 |
第四章 膜污染与膜清洗研究 | 第41-53页 |
4.1 水样配伍试验 | 第41-42页 |
4.2 中试化学维护性的清洗效果 | 第42-43页 |
4.2.1 理论分析 | 第42页 |
4.2.2 各工况下化学维护性清洗效果分析 | 第42-43页 |
4.3 化学维护性清洗药剂优化选择 | 第43-45页 |
4.4 化学维护性清洗前后膜丝性能表征 | 第45-51页 |
4.4.1 化学维护性清洗前膜丝内外表面扫面电镜及能谱表征 | 第45-48页 |
4.4.1.1 化学维护性清洗前膜丝外表面电镜及能谱图 | 第45-47页 |
4.4.1.2 化学维护性清洗前膜丝内表面扫描电镜及能谱分析 | 第47-48页 |
4.4.2 化学维护性清洗后膜丝电镜及能谱表征 | 第48-50页 |
4.4.2.1 化学维护性清洗后膜丝外表面 | 第48-49页 |
4.4.2.2 化学维护性清洗后膜丝内表面电镜及能谱分析 | 第49-50页 |
4.4.3 膜组件清洗排放积泥XRD表征 | 第50页 |
4.4.4 化学维护性清洗机理 | 第50-51页 |
4.5 本章小结 | 第51-53页 |
第五章 结论 | 第53-55页 |
参考文献 | 第55-59页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第59-61页 |
致谢 | 第61页 |