| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-27页 |
| 1.1 碳纳米管的背景介绍 | 第8-9页 |
| 1.2 碳纳米管的结构 | 第9-11页 |
| 1.3 碳纳米管的性质 | 第11-12页 |
| 1.4 碳纳米管的水辅助法生长 | 第12-15页 |
| 1.5 催化剂体系的调节作用 | 第15-26页 |
| 1.6 本文的选题依据及工作内容 | 第26-27页 |
| 2 磁控溅射法制备薄膜 | 第27-37页 |
| 2.1 磁控溅射技术原理 | 第27-29页 |
| 2.2 实验试剂及仪器 | 第29页 |
| 2.3 实验设备 | 第29-31页 |
| 2.4 硅片清洗 | 第31-32页 |
| 2.5 磁控溅射仪的操作步骤 | 第32-34页 |
| 2.6 镀膜均匀性的检测 | 第34-37页 |
| 3 射频反应磁控溅射制备Al_2O_3薄膜 | 第37-50页 |
| 3.1 室温沉积的Al_2O_3薄膜XRD分析 | 第37-38页 |
| 3.2 Al_2O_3薄膜溅射速率与工艺参数之间的关系 | 第38-41页 |
| 3.3 Al_2O_3薄膜的粗糙度与工艺参数的关系 | 第41-46页 |
| 3.4 Al_2O_3薄膜的致密度与溅射气压之间的关系 | 第46-47页 |
| 3.5 Al_2O_3薄膜表面的形貌 | 第47-48页 |
| 3.6 本章小结 | 第48-50页 |
| 4 全文总结及展望 | 第50-52页 |
| 4.1 工作总结 | 第50页 |
| 4.2 工作展望 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
