| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 硫化氢腐蚀概述 | 第12-13页 |
| 1.2 氢损伤 | 第13-15页 |
| 1.3 氢渗透以及H_2S的毒化作用 | 第15-16页 |
| 1.4 氢损伤防护研究现状 | 第16-20页 |
| 1.4.1 冶金净化技术 | 第17-18页 |
| 1.4.2 热处理工艺 | 第18页 |
| 1.4.3 阻氢涂层 | 第18-20页 |
| 1.4.4 超透氢合金 | 第20页 |
| 1.4.5 缓蚀剂 | 第20页 |
| 1.5 稀土金属的性质及其应用 | 第20-21页 |
| 1.6 本文的研究意义及内容 | 第21-24页 |
| 1.6.1 研究意义 | 第21-22页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 实验材料与研究方法 | 第24-34页 |
| 2.1 实验材料及试样制备 | 第24-25页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第24页 |
| 2.1.2 金相分析 | 第24-25页 |
| 2.2 氢渗透实验 | 第25-28页 |
| 2.2.1 Devnathan-Stachurski双电解池技术 | 第25-26页 |
| 2.2.2 氢渗透实验 | 第26-28页 |
| 2.2.3 渗氢浓度计算 | 第28页 |
| 2.3 断裂力学测试 | 第28-29页 |
| 2.4 静态浸泡充氢实验 | 第29-31页 |
| 2.4.1 静态充氢-集氢实验 | 第29-30页 |
| 2.4.2 U型弯浸泡实验 | 第30-31页 |
| 2.5 常规电化学实验 | 第31页 |
| 2.5.1 动电位极化曲线测试 | 第31页 |
| 2.5.2 电化学阻抗谱测试 | 第31页 |
| 2.6 失重实验 | 第31-32页 |
| 2.7 表面形貌观察 | 第32页 |
| 2.8 X-RAY光电子能谱(XPS)分析 | 第32页 |
| 2.9 本章小结 | 第32-34页 |
| 第3章 抗渗氢剂对氢渗透及氢损伤行为的影响 | 第34-50页 |
| 3.0 引言 | 第34页 |
| 3.1 抗渗氢剂和H_2S的添加对渗氢行为的影响 | 第34-36页 |
| 3.2 不含H_2S环境中抗渗氢剂浓度对渗氢行为的影响 | 第36-38页 |
| 3.3 含H_2S环境中抗渗氢剂浓度对渗氢行为的影响 | 第38-39页 |
| 3.4 抗渗氢剂和H_2S对力学行为的影响 | 第39-43页 |
| 3.5 U型弯浸泡实验 | 第43-48页 |
| 3.5.1 U型弯宏观形貌 | 第43-44页 |
| 3.5.2 U型弯腐蚀失重 | 第44页 |
| 3.5.3 U型弯微观形貌 | 第44-48页 |
| 3.6 本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 抗渗氢剂对析氢反应过程的影响 | 第50-58页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 抗渗氢剂对阴极析氢速率的影响 | 第50-52页 |
| 4.3 静态充氢-集氢实验 | 第52-54页 |
| 4.3.1 抗渗氢剂对腐蚀失重以及腐蚀形貌的影响 | 第52-53页 |
| 4.3.2 抗渗氢剂对析氢体积的影响 | 第53-54页 |
| 4.4 析氢动态过程原位检测 | 第54-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-58页 |
| 第5章 抗渗氢剂抑制氢渗透行为的机理探究 | 第58-68页 |
| 5.1 引言 | 第58页 |
| 5.2 抗渗氢剂对析氢电位的影响 | 第58-60页 |
| 5.3 抗渗氢剂对析氢反应活性的影响 | 第60页 |
| 5.4 抗渗氢剂对电化学阻抗的影响 | 第60-63页 |
| 5.5 XPS表面腐蚀产物成分分析 | 第63-64页 |
| 5.6 抗渗氢剂在含H2S酸性环境中抑氢机理浅析 | 第64-65页 |
| 5.7 本章小结 | 第65-68页 |
| 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
