| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第10页 |
| 1.2 透明导电薄膜简介 | 第10-15页 |
| 1.2.1 透明导电薄膜的发展历史与趋势 | 第10-11页 |
| 1.2.2 透明导电氧化物薄膜 | 第11-12页 |
| 1.2.3 柔性透明导电薄膜 | 第12-15页 |
| 1.3 论文选题依据及研究内容 | 第15-17页 |
| 参考文献 | 第17-21页 |
| 第二章 薄膜样品的制备与表征 | 第21-26页 |
| 2.1 三维衬底上透明导电薄膜制备 | 第21-22页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第21页 |
| 2.1.2 三维衬底上透明导电薄膜制备方法 | 第21-22页 |
| 2.2 三维衬底上透明导电薄膜的形貌表征 | 第22-23页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜 | 第22页 |
| 2.2.2 原子力显微镜 | 第22页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜 | 第22-23页 |
| 2.3 三维衬底上透明导电薄膜的光电性能表征 | 第23-25页 |
| 2.3.1 双电测四探针测试仪 | 第23-24页 |
| 2.3.2 台式数字万用表 | 第24页 |
| 2.3.3 紫外可见分光光度计 | 第24-25页 |
| 2.4 三维衬底上透明导电薄膜的柔韧性表征 | 第25-26页 |
| 第三章 三维衬底表面Ag NWs/ZnO透明导电薄膜制备与特性研究 | 第26-41页 |
| 3.1 引言 | 第26-28页 |
| 3.2 三维衬底表面AgNWs/ZnO透明导电薄膜的制备 | 第28-29页 |
| 3.2.1 溶液制备 | 第28页 |
| 3.2.2 三维透明衬底的制备 | 第28页 |
| 3.2.3 三维衬底表面AgNWs/ZnO透明导电薄膜的制备 | 第28-29页 |
| 3.3 三维衬底表面AgNWs/ZnO透明导电薄膜的形貌和结构表征 | 第29-32页 |
| 3.3.1 三维衬底上薄膜的SEM表征 | 第29-30页 |
| 3.3.2 三维衬底上薄膜的AFM和TEM表征 | 第30-32页 |
| 3.4 三维衬底表面AgNWs/ZnO透明导电薄膜性能表征 | 第32-37页 |
| 3.4.1 三维衬底上薄膜光电性能表征 | 第32-34页 |
| 3.4.2 三维衬底上薄膜稳定性表征 | 第34-35页 |
| 3.4.3 三维衬底上薄膜柔性表征 | 第35-37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第四章 三维表面AgNWs/PDMS弹性透明导电薄膜的制备与性能研究 | 第41-52页 |
| 4.1 引言 | 第41-42页 |
| 4.2 三维表面AgNWs/PDMS弹性透明导电薄膜的制备 | 第42-43页 |
| 4.2.1 三维表面弹性衬底的制备 | 第42页 |
| 4.2.2 三维表面AgNWs/PDMS弹性透明导电薄膜的制备 | 第42-43页 |
| 4.3 三维表面AgNWs/PDMS弹性透明导电薄膜的形貌表征 | 第43-45页 |
| 4.3.1 三维表面上薄膜的SEM表征 | 第43-45页 |
| 4.4 三维表面AgNWs/PDMS弹性透明导电薄膜的性能表征 | 第45-49页 |
| 4.4.1 三维表面上薄膜的光电性能表征 | 第45-46页 |
| 4.4.2 三维表面上薄膜的柔性表征 | 第46-48页 |
| 4.4.3 三维表面上薄膜的弹性表征 | 第48-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 第五章 总结与展望 | 第52-54页 |
| 5.1 结论 | 第52-53页 |
| 5.2 展望 | 第53-54页 |
| 硕士期间的科研成果 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
