| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 符号说明 | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 全光开关研究的意义 | 第10-12页 |
| 1.2 用于全光开关的三阶非线性光学材料的研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3 dmit盐的三阶非线性光学性质的常用测试方法 | 第13-16页 |
| 1.4 论文的研究目的和主要内容 | 第16-17页 |
| 第二章 非线性光学原理 | 第17-23页 |
| 2.1 引言 | 第17-18页 |
| 2.2 非线性光学介质的极化 | 第18页 |
| 2.3 非线性极化率 | 第18-19页 |
| 2.4 非线性折射率 | 第19-21页 |
| 2.4.1 非线性折射率的定义 | 第19-20页 |
| 2.4.2 引起非线性折射率变化的主要机制 | 第20-21页 |
| 2.5 非线性吸收 | 第21-23页 |
| 第三章 Z扫描理论 | 第23-31页 |
| 3.1 单光束Z扫描的理论 | 第23-30页 |
| 3.1.1 不考虑非线性吸收时的情况 | 第23-27页 |
| 3.1.2 开孔Z扫描 | 第27-30页 |
| 3.2 三阶非线性极化率x~(3)和分子二阶超极化率γ的计算方法 | 第30-31页 |
| 第四章 实验 | 第31-39页 |
| 4.1 Z扫描实验 | 第31-36页 |
| 4.1.1 实验装置的搭建 | 第31-33页 |
| 4.1.2 仪器控制和数据采集程序的编写 | 第33-35页 |
| 4.1.3 用CS_2对系统进行校准 | 第35-36页 |
| 4.2 样品的合成 | 第36-38页 |
| 4.2.1 dmit盐概述 | 第36-37页 |
| 4.2.2 样品MeCu和HtCu的合成 | 第37-38页 |
| 4.3 材料光学性质测试 | 第38-39页 |
| 4.3.1 测量样品MeCu和HtCu的线性吸收光谱 | 第38页 |
| 4.3.2 样品的三阶非线性光学性质测量——z扫描实验 | 第38-39页 |
| 第五章 结果与分析 | 第39-49页 |
| 5.1 样品的吸收光谱及其产生机理的讨论 | 第39-40页 |
| 5.2 利用Z扫描技术研究两种样品的三阶非线性光学性质 | 第40-45页 |
| 5.2.1 两种样品的Z扫描曲线 | 第40-42页 |
| 5.2.2 不同光强条件下相同浓度样品溶液的Z扫描 | 第42-43页 |
| 5.2.3 在相同光强条件下不同浓度样品的三阶非线性光学性质 | 第43-44页 |
| 5.2.4 样品的三阶非线性光学性能参数的计算 | 第44-45页 |
| 5.3 材料非线性机理分析 | 第45-47页 |
| 5.4 材料在全光开关制备方面的应用潜力的评估 | 第47-48页 |
| 5.5 测量过程中的误差分析 | 第48-49页 |
| 第六章 结论和展望 | 第49-52页 |
| 参考文献 | 第52-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 攻读硕士期间发表和待发表的文章 | 第61-62页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第62页 |
