钙钛矿类纳米粉体的制备及性能研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第18-30页 |
| 1.1 研究背景 | 第18页 |
| 1.2 纳米陶瓷 | 第18-20页 |
| 1.2.1 纳米材料 | 第18-19页 |
| 1.2.2 纳米陶瓷 | 第19-20页 |
| 1.3 钙钛矿型电介质陶瓷的结构及性能 | 第20-24页 |
| 1.3.1 晶体结构 | 第20-21页 |
| 1.3.2 基本性能 | 第21-24页 |
| 1.3.2.1 介质的极化 | 第21-22页 |
| 1.3.2.2 介电常数 | 第22-23页 |
| 1.3.2.3 介电损耗 | 第23页 |
| 1.3.2.4 介电常数的温度系数 | 第23-24页 |
| 1.4 钙钛矿型电介质陶瓷材料制备 | 第24-28页 |
| 1.4.1 钙钛矿陶瓷粉的制备 | 第24-27页 |
| 1.4.1.1 固相反应法 | 第25页 |
| 1.4.1.2 化学共沉淀法 | 第25-26页 |
| 1.4.1.3 溶胶—凝胶法 | 第26页 |
| 1.4.1.4 喷雾热解法 | 第26-27页 |
| 1.4.1.5 其它方法 | 第27页 |
| 1.4.2 钙钛矿陶瓷的烧结致密化 | 第27-28页 |
| 1.5 研究内容和研究方案 | 第28-30页 |
| 1.5.1 低温液相法制备粉体 | 第28页 |
| 1.5.2 水热后处理 | 第28-29页 |
| 1.5.3 烧结致密化 | 第29-30页 |
| 第二章 SOx固溶体的低温液相法制备研究 | 第30-44页 |
| 2.1 引言 | 第30-31页 |
| 2.2 实验部分 | 第31-34页 |
| 2.2.1 实验原理 | 第31页 |
| 2.2.2 实验仪器及药品 | 第31-32页 |
| 2.2.2.1 实验仪器 | 第31-32页 |
| 2.2.2.2 实验药品 | 第32页 |
| 2.2.3 实验装置 | 第32-33页 |
| 2.2.4 实验过程 | 第33页 |
| 2.2.5 分析、测试及表征 | 第33-34页 |
| 2.3 低温液相沉淀法合成纳米SOx粉体结果讨论 | 第34-38页 |
| 2.3.1 物相分析 | 第34-35页 |
| 2.3.2 形貌及粒径分析 | 第35-37页 |
| 2.3.3 掺杂的均匀性分析比较 | 第37-38页 |
| 2.4 低温液相沉淀法制备条件的优化 | 第38-43页 |
| 2.4.1 反应温度的影响 | 第38-40页 |
| 2.4.2 反应时间的影响 | 第40-42页 |
| 2.4.3 反应物总浓度的影响 | 第42-43页 |
| 2.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 水热后处理SOx固溶体粉体的研究 | 第44-58页 |
| 3.1 引言 | 第44页 |
| 3.2 实验部分 | 第44-47页 |
| 3.2.1 实验仪器及药品 | 第44-46页 |
| 3.2.1.1 实验仪器 | 第44-45页 |
| 3.2.1.2 实验药品 | 第45-46页 |
| 3.2.2 实验装置 | 第46页 |
| 3.2.3 实验过程 | 第46页 |
| 3.2.4 分析、测试及表征 | 第46-47页 |
| 3.3 水热后处理条件的优化 | 第47-51页 |
| 3.3.1 水热后处理时间的影响 | 第47-48页 |
| 3.3.2 水热后处理温度的影响 | 第48-51页 |
| 3.4 水热后处理SOx系列粉体结果讨论 | 第51-57页 |
| 3.4.1 物相分析 | 第51-52页 |
| 3.4.2 形貌及粒径分析 | 第52-54页 |
| 3.4.3 水热后处理对粉体比表面积的影响 | 第54页 |
| 3.4.4 水热后处理对粉体杂质的影响 | 第54-56页 |
| 3.4.5 水热后处理对粉体化学成分的影响 | 第56-57页 |
| 3.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 钛酸钡基粉体的烧结致密化性能研究 | 第58-77页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 实验部分 | 第58-62页 |
| 4.2.1 实验原理 | 第58-59页 |
| 4.2.2 实验仪器及药品 | 第59-60页 |
| 4.2.2.1 实验仪器 | 第59-60页 |
| 4.2.2.2 实验药品 | 第60页 |
| 4.2.3 实验装置 | 第60页 |
| 4.2.4 实验过程 | 第60-61页 |
| 4.2.5 分析、测试及表征 | 第61-62页 |
| 4.3 BZ2粉体烧结性能研究 | 第62-67页 |
| 4.3.1 粉体表征 | 第62-64页 |
| 4.3.1.1 初始粉体表征 | 第62-63页 |
| 4.3.1.2 焙烧处理后粉体表征 | 第63-64页 |
| 4.3.2 常规法烧结的陶瓷体性能表征 | 第64-67页 |
| 4.3.2.1 生坯片密度 | 第64页 |
| 4.3.2.2 烧结后陶瓷体密度 | 第64-65页 |
| 4.3.2.3 陶瓷体的介电性能和微结构 | 第65-67页 |
| 4.4 BS2粉体烧结性能研究 | 第67-71页 |
| 4.4.1 粉体表征 | 第67-69页 |
| 4.4.1.1 初始粉体表征 | 第67-68页 |
| 4.4.1.2 焙烧处理后粉体表征 | 第68-69页 |
| 4.4.2 常规法烧结的陶瓷体性能表征 | 第69-71页 |
| 4.4.2.1 生坯片密度 | 第69页 |
| 4.4.2.2 烧结后陶瓷体密度 | 第69-70页 |
| 4.4.2.3 陶瓷体的介电性能和微结构 | 第70-71页 |
| 4.5 BSZ2粉体烧结性能研究 | 第71-75页 |
| 4.5.1 粉体表征 | 第71-73页 |
| 4.5.1.1 初始粉体表征 | 第71-72页 |
| 4.5.1.2 焙烧处理后粉体表征 | 第72-73页 |
| 4.5.2 常规法烧结的陶瓷体性能表征 | 第73-75页 |
| 4.5.2.1 生坯片密度 | 第73页 |
| 4.5.2.2 烧结后陶瓷体密度 | 第73-74页 |
| 4.5.2.3 陶瓷体的介电性能和微结构 | 第74-75页 |
| 4.6 本章小结 | 第75-77页 |
| 第五章 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-84页 |
| 附录1 | 第84-85页 |
| 附录2 | 第85-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第88-89页 |
| 作者和导师简介 | 第89页 |
