磁瓦尺寸测量与表面缺陷检测及其系统开发
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-19页 |
| 1.1 课题研究背景与意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-17页 |
| 1.2.1 无损检测 | 第13页 |
| 1.2.2 缺陷检测研究介绍 | 第13-14页 |
| 1.2.3 磁瓦表面缺陷检测方法 | 第14-17页 |
| 1.3 机器视觉常用工具 | 第17-18页 |
| 1.3.1 Halcon机器视觉软件库 | 第17页 |
| 1.3.2 Matlab图像处理工具箱 | 第17页 |
| 1.3.3 OpenCV开源图像处理软件库 | 第17-18页 |
| 1.4 课题的研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 磁瓦缺陷检测系统总体设计 | 第19-25页 |
| 2.1 本项目检测系统总体方案设计 | 第19-20页 |
| 2.1.1 磁瓦缺陷检测总体设计要求 | 第19页 |
| 2.1.2 图像采集部分需求 | 第19-20页 |
| 2.2 各子系统详细设计 | 第20-24页 |
| 2.2.1 机械系统 | 第20-22页 |
| 2.2.2 控制系统 | 第22-23页 |
| 2.2.3 视觉系统 | 第23-24页 |
| 2.3 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 机器视觉系统部件的选取 | 第25-32页 |
| 3.1 相机的选取和分析 | 第25-27页 |
| 3.1.1 相机选取的考虑因素 | 第25-26页 |
| 3.1.2 相机选择和计算 | 第26-27页 |
| 3.2 镜头选择和分析 | 第27-29页 |
| 3.2.1 镜头选取的考虑因素 | 第27-28页 |
| 3.2.2 镜头选择和计算 | 第28-29页 |
| 3.3 光源的选取 | 第29-31页 |
| 3.3.1 光源选型基本要求 | 第29页 |
| 3.3.2 光源的类型 | 第29-30页 |
| 3.3.3 系统照明方式选择 | 第30-31页 |
| 3.4 本章总结 | 第31-32页 |
| 第四章 磁瓦图像预处理方法研究 | 第32-45页 |
| 4.1 图像预处理算法总体流程 | 第32页 |
| 4.2 磁瓦图像的采集 | 第32页 |
| 4.3 磁瓦图像的滤波处理 | 第32-35页 |
| 4.3.1 空域锐化增强 | 第33-35页 |
| 4.4 图像分割 | 第35-41页 |
| 4.4.1 图像边缘检测 | 第35-39页 |
| 4.4.2 图像二值化 | 第39-41页 |
| 4.5 图像二值形态学 | 第41-44页 |
| 4.5.1 膨胀原理 | 第41-42页 |
| 4.5.2 腐蚀原理 | 第42-44页 |
| 4.6 本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 磁瓦尺寸测量以及缺陷检测 | 第45-62页 |
| 5.1 尺寸测量以及缺陷检测算法的总体流程设计 | 第45-46页 |
| 5.2 磁瓦尺寸测量 | 第46-54页 |
| 5.2.1 相机标定 | 第46-48页 |
| 5.2.2 尺寸测量 | 第48-54页 |
| 5.3 图像缺陷分类 | 第54-58页 |
| 5.3.1 缺陷特征提取 | 第54-56页 |
| 5.3.2 分类器设计 | 第56-58页 |
| 5.4 图像缺陷检测 | 第58-61页 |
| 5.4.1 缺陷检测标准 | 第58-59页 |
| 5.4.2 产品合格判别 | 第59-61页 |
| 5.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 软件系统实现 | 第62-75页 |
| 6.1 MVC软件架构以及在MFC中的实现 | 第62-63页 |
| 6.2 模块功能划分 | 第63-68页 |
| 6.2.1 模型部分 | 第63-67页 |
| 6.2.2 控制器部分 | 第67页 |
| 6.2.3 视图部分 | 第67-68页 |
| 6.3 性能需求分析 | 第68页 |
| 6.4 软件系统的实现 | 第68-70页 |
| 6.4.1 MVC架构的实现 | 第68-69页 |
| 6.4.2 多线程实现 | 第69-70页 |
| 6.5 系统整体实现 | 第70-74页 |
| 6.6 本章小结 | 第74-75页 |
| 第七章 总结与展望 | 第75-77页 |
| 7.1 总结 | 第75-76页 |
| 7.2 展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第82页 |
