| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 人工合成金刚石技术的发展 | 第9-10页 |
| 1.2 金刚石的基本结构 | 第10页 |
| 1.3 金刚石的类型 | 第10-11页 |
| 1.4 金刚石的性质及其相应的应用 | 第11-13页 |
| 1.4.1 力学、声学性质及相应的应用 | 第11-12页 |
| 1.4.2 热学性质及应用 | 第12页 |
| 1.4.3 光学性质及应用 | 第12-13页 |
| 1.4.4 电学、化学性质及相应的应用 | 第13页 |
| 1.4.5 其他性质及相应的应用 | 第13页 |
| 1.5 化学气相沉积 CVD 法 | 第13-15页 |
| 1.5.1 MPCVD 法的过程与原理 | 第14页 |
| 1.5.2 CVD 金刚石过程中各基团之间的反应 | 第14-15页 |
| 1.6 CVD 金刚石单晶晶体缺陷类型 | 第15-17页 |
| 1.6.1 点缺陷 | 第15-16页 |
| 1.6.2 线缺陷 | 第16-17页 |
| 1.6.3 面缺陷和体缺陷 | 第17页 |
| 1.7 CVD 过程中影响金刚石单晶生长的主要参数 | 第17-20页 |
| 1.7.1 籽晶衬底的预处理的作用 | 第17-18页 |
| 1.7.2 偏离角的作用 | 第18-19页 |
| 1.7.3 沉积温度的作用 | 第19页 |
| 1.7.4 N_2的作用 | 第19-20页 |
| 1.7.5 O_2的作用 | 第20页 |
| 1.8 选题及主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 金刚石单晶生长设备及表征技术 | 第22-24页 |
| 2.1 本文的实验设备 | 第22-23页 |
| 2.2 本文采用的表征方法 | 第23-24页 |
| 2.2.1 金相显微镜 | 第23页 |
| 2.2.2 光发射谱 | 第23页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第23页 |
| 2.2.4 激光拉曼光谱 | 第23页 |
| 2.2.5 光致发光光谱 | 第23-24页 |
| 第三章 甲烷浓度对金刚石单晶生长的影响 | 第24-37页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 O_2对金刚石单晶生长的影响 | 第24-27页 |
| 3.2.1 实验条件 | 第24-25页 |
| 3.2.2 O_2对生长速率的影响 | 第25页 |
| 3.2.3 O_2对金刚石表面形貌的影响 | 第25-26页 |
| 3.2.4 O_2对晶体质量的影响 | 第26-27页 |
| 3.2.5 O_2对氮含量的影响 | 第27页 |
| 3.3 CH_4浓度对金刚石单晶的生长影响 | 第27-35页 |
| 3.3.1 实验条件 | 第28页 |
| 3.3.2 CH_4浓度对生长速率的影响 | 第28-30页 |
| 3.3.3 不同 CH_4浓度的 OES | 第30-31页 |
| 3.3.4 CH_4浓度对晶体质量的影响 | 第31-32页 |
| 3.3.5 CH_4浓度对样品氮含量的影响 | 第32页 |
| 3.3.6 CH_4浓度对金刚石表面形貌的影响 | 第32-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-37页 |
| 第四章 晶向偏离角对金刚石单晶生长的影响 | 第37-42页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 实验条件 | 第37页 |
| 4.3 off-axis 角对生长速率的影响 | 第37-38页 |
| 4.4 off-axis 角对晶体质量的影响 | 第38-40页 |
| 4.5 off-axis 角对表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| 4.6 本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 全文总结 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-50页 |
| 作者简介 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |