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磁控溅射沉积参数对TiAlN刀具涂层微观结构与性能的影响

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第12-28页
    1.1 涂层刀具概述第12-18页
        1.1.1 涂层刀具的发展第13-17页
        1.1.2 涂层刀具的应用现状第17-18页
    1.2 氮化物刀具涂层材料的研究现状第18-22页
        1.2.1 涂层成分的多元化第19-20页
        1.2.2 涂层结构的纳米化第20-21页
        1.2.3 涂层结构的多层化第21-22页
    1.3 目前刀具涂层存在的问题第22-23页
        1.3.1 涂层与刀具基体的结合力差第22-23页
        1.3.2 涂层抗氧化性差第23页
    1.4 刀具涂层技术第23-27页
        1.4.1 化学气相沉积技术第23-24页
        1.4.2 物理气相沉积技术第24-25页
        1.4.3 磁控溅射真空镀膜技术第25-27页
    1.5 本文主要研究内容第27-28页
第2章 实验部分第28-36页
    2.1 实验设备第28页
    2.2 实验材料和实验步骤第28-30页
        2.2.1 靶材的选择第28-29页
        2.2.2 基片的选择与预处理第29页
        2.2.3 实验步骤第29-30页
    2.3 工艺参数的选择第30-31页
        2.3.1 基片负偏压第30页
        2.3.2 靶材功率第30页
        2.3.3 N_2分压第30-31页
        2.3.4 其它工艺参数的选择第31页
    2.4 涂层的表征和性能检测第31-36页
        2.4.1 形貌、厚度与成分分析第31-32页
        2.4.2 物相组织分析(XRD)第32-33页
        2.4.3 硬度与杨氏模量的分析第33-34页
        2.4.4 涂层-基体结合性能的分析第34-36页
第3章 TiAlN涂层组织、力学性能随沉积参数的演变及切削实验第36-60页
    3.1 前言第36页
    3.2 基片偏压对TiAlN组织与性能的影响第36-42页
        3.2.1 沉积速率第36-37页
        3.2.2 成分第37-38页
        3.2.3 断面和表面形貌第38-40页
        3.2.4 物相第40页
        3.2.5 硬度和杨氏模量第40-41页
        3.2.6 膜-基结合力第41-42页
        3.2.7 小结第42页
    3.3 靶材功率对TiAlN组织与性能的影响第42-48页
        3.3.1 沉积速率第42-43页
        3.3.2 成分第43-44页
        3.3.3 断面和表面形貌第44-45页
        3.3.4 物相第45-46页
        3.3.5 硬度和杨氏模量第46-47页
        3.3.6 膜-基结合力第47页
        3.3.7 小结第47-48页
    3.4 N_2分压对TiAlN组织与性能的影响第48-55页
        3.4.1 沉积速率第48-49页
        3.4.2 成分第49-50页
        3.4.3 断面和表面形貌第50-51页
        3.4.4 物相第51-53页
        3.4.5 硬度和弹性模量第53-54页
        3.4.6 膜-基结合力第54-55页
        3.4.7 小结第55页
    3.5 TiAlN涂层刀具的制备及切削实验结果第55-59页
        3.5.1 TiAlN涂层刀具的制备第55-56页
        3.5.2 切削参数和切削结果第56-58页
        3.5.3 小结第58-59页
    3.6 本章小结第59-60页
第4章 TiAlSiN涂层组织与力学性能随Si含量演变第60-68页
    4.1 前言第60页
    4.2 Si含量对TiAlSiN组织与性能的影响第60-66页
        4.2.1 成分第60-61页
        4.2.2 物相第61-62页
        4.2.3 微观结构第62-64页
        4.2.4 硬度和杨氏模量第64-66页
        4.2.5 膜-基结合力第66页
    4.3 本章小结第66-68页
第5章 结论与展望第68-70页
    5.1 主要结论第68页
    5.2 结果展望第68-70页
参考文献第70-76页
致谢第76页

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