摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-10页 |
目录 | 第11-15页 |
第一章 文献综述 | 第15-45页 |
1.1. 连铸技术的发展 | 第15-17页 |
1.2. 连铸结晶器内钢液流场的研究 | 第17-24页 |
1.3. 电磁场在连铸生产中的应用 | 第24-38页 |
1.4. 连铸结晶器内钢液流动的控制 | 第38-43页 |
1.5. 本文的主要研究内容 | 第43-45页 |
第二章 FC-Mold 金属液流场物理模拟研究 | 第45-65页 |
2.1 实验原理 | 第45-46页 |
2.2 实验设备 | 第46-48页 |
2.3 测量仪器 | 第48-50页 |
2.4 实验设计 | 第50-51页 |
2.5 实验条件 | 第51-52页 |
2.6 实验结果与讨论 | 第52-64页 |
2.6.1 对结晶器内金属液流场的整体考察 | 第52-55页 |
2.6.1.1 磁场对结晶器内金属液流场的影响 | 第52-53页 |
2.6.1.2 水口浸入深度对结晶器内金属液流场的影响 | 第53-54页 |
2.6.1.3 磁场位置对结晶器内金属液流场的影响 | 第54-55页 |
2.6.2 对结晶器液面活跃度(水平流速)的考察 | 第55-57页 |
2.6.2.1 磁场对结晶器液面活跃度(水平流速)的影响 | 第55-56页 |
2.6.2.2 磁场位置对结晶器液面活跃度(水平流速)的影响 | 第56-57页 |
2.6.3 结晶器流场液面波动的考察 | 第57-59页 |
2.6.4 对结晶器流场冲击深度的考察 | 第59-61页 |
2.6.5 对结晶器窄面冲击强度的考察 | 第61-64页 |
2.7 本章小结 | 第64-65页 |
第三章 FC-MoldII 金属液流场物理模拟研究 | 第65-82页 |
3.1 实验 | 第65-68页 |
3.2 实验结果与讨论 | 第68-81页 |
3.2.1 对结晶器液面活跃度(水平流速)的考察 | 第68-72页 |
3.2.1.1 磁场对结晶器液面活跃度的影响 | 第68-70页 |
3.2.1.2 水口浸入深度对结晶器液面活跃度的影响 | 第70-72页 |
3.2.1.3 拉速对结晶器液面活跃度的影响 | 第72页 |
3.2.2 对结晶器液面波动的考察 | 第72-75页 |
3.2.2.1 磁场对结晶器液面波动的影响 | 第72-73页 |
3.2.2.2 水口浸入深度对结晶器液面波动的影响 | 第73-74页 |
3.2.2.3 拉速对结晶器液面波动的影响 | 第74-75页 |
3.2.3 对结晶器流场冲击深度的考察 | 第75-78页 |
3.2.3.1 磁场对结晶器流场特征下冲流速的影响 | 第75-77页 |
3.2.3.2 拉速对结晶器特征下冲速度的影响 | 第77-78页 |
3.2.4 对结晶器窄面冲击强度的的考察 | 第78-81页 |
3.2.4.1 磁场对冲击强度的影响 | 第78-79页 |
3.2.4.2 水口浸入深度对冲击强度的影响 | 第79-80页 |
3.2.4.3 拉速对结晶器流场冲击强度的影响 | 第80-81页 |
3.3 本章小结 | 第81-82页 |
第四章 异型磁场结晶器内钢液流场物理模拟研究 | 第82-110页 |
4.1. 窄面型磁场结晶器内钢液流场物理模拟研究 | 第82-91页 |
4.1.1 实验条件 | 第82-84页 |
4.1.2 实验结果与讨论 | 第84-91页 |
4.1.2.1 对结晶器内金属液流场的整体考察 | 第84-85页 |
4.1.2.1.1 磁场对结晶器内金属液流场的影响 | 第84-85页 |
4.1.2.1.2 水口浸入深度对结晶器内金属液流场的影响 | 第85页 |
4.1.2.2 磁场对结晶器液面活跃度(水平流速)的影响 | 第85-86页 |
4.1.2.3 对结晶器流场液面波动的考察 | 第86-87页 |
4.1.2.3.1 磁场对结晶器流场液面波动的影响 | 第86-87页 |
4.1.2.3.2 水口浸入深度对结晶器流场液面波动的影响 | 第87页 |
4.1.2.4 对结晶器流场冲击深度的考察 | 第87-89页 |
4.1.2.4.1 磁场对结晶器流场冲击深度的影响 | 第87-88页 |
4.1.2.4.2 水口浸入深度对结晶器流场冲击深度的影响 | 第88-89页 |
4.1.2.5 对结晶器窄面冲击强度的考察 | 第89-91页 |
4.1.2.5.1 磁场对结晶器窄面冲击强度的影响 | 第89-90页 |
4.1.2.5.2 水口浸入深度对结晶器窄面冲击强度的影响 | 第90-91页 |
4.1.3 本节小结 | 第91页 |
4.2. 射流型磁场结晶器内钢液流场物理模拟研究 | 第91-100页 |
4.2.1 实验条件 | 第91-92页 |
4.2.2 实验结果与讨论 | 第92-100页 |
4.2.2.1 对结晶器内金属液流场的整体考察 | 第92-94页 |
4.2.2.1.1 磁场对结晶器内金属液流场的影响 | 第92-93页 |
4.2.2.1.2 水口浸入深度对结晶器内金属液流场的影响 | 第93-94页 |
4.2.2.2 磁场对结晶器液面活跃度(水平流速)的影响 | 第94-96页 |
4.2.2.3 对结晶器流场液面波动的考察 | 第96-97页 |
4.2.2.3.1 磁场对结晶器流场液面波动的影响 | 第96页 |
4.2.2.3.2 水口浸入深度对结晶器流场液面波动的影响 | 第96-97页 |
4.2.2.4 对结晶器流场冲击深度的考察 | 第97-98页 |
4.2.2.4.1 磁场对结晶器流场冲击深度的影响 | 第97-98页 |
4.2.2.4.2 水口浸入深度对结晶器流场冲击深度的影响 | 第98页 |
4.2.2.5 对结晶器窄面冲击强度的考察 | 第98-100页 |
4.2.2.5.1 磁场对冲击强度的影响 | 第98-99页 |
4.2.2.5.2 水口浸入深度对结晶器窄面冲击强度的影响 | 第99-100页 |
4.2.3 本节小结 | 第100页 |
4.3. 复合型磁场结晶器内钢液流场物理模拟研究 | 第100-109页 |
4.3.1 实验条件 | 第100-102页 |
4.3.2 实验结果与讨论 | 第102-108页 |
4.3.2.1 对结晶器内金属液流场的整体考察 | 第102-103页 |
4.3.2.1.1 磁场对结晶器内金属液流场的影响 | 第102-103页 |
4.3.2.1.2 水口浸入深度对结晶器内金属液流场的影响 | 第103页 |
4.3.2.2 磁场对结晶器液面活跃度(水平流速)的影响 | 第103-105页 |
4.3.2.3 对结晶器流场液面波动的考察 | 第105-106页 |
4.3.2.3.1 磁场对结晶器流场液面波动的影响 | 第105-106页 |
4.3.2.3.2 水口浸入深度对结晶器流场液面波动的影响 | 第106页 |
4.3.2.4 水口浸入深度对冲击深度的影响 | 第106-107页 |
4.3.2.5 对结晶器窄面冲击强度的考察 | 第107-108页 |
4.3.2.5.1 磁场对结晶器窄面冲击强度的影响 | 第107-108页 |
4.3.2.5.2 水口浸入深度对结晶器窄面冲击强度的影响 | 第108页 |
4.3.3 本节小结 | 第108-109页 |
4.4. 本章小结 | 第109-110页 |
第五章 H 型磁场结晶器内钢液流场物理模拟研究 | 第110-120页 |
5.1. 实验原理、测量方法及实验设备 | 第110-112页 |
5.2 实验结果与讨论 | 第112-115页 |
5.2.1 磁场对结晶器内金属液流场的影响 | 第112-113页 |
5.2.2 磁场对结晶器液面活跃度(水平流速)和液面波动的影响 | 第113-114页 |
5.2.3 磁场对结晶器流场冲击深度的影响 | 第114-115页 |
5.3 FC-MoldII 与 H 型电磁制动流动效果比较 | 第115-119页 |
5.3.1 结晶器液面活跃度(水平流速)的比较 | 第115-116页 |
5.3.2 结晶器流场液面波动的比较 | 第116-117页 |
5.3.3 结晶器流场冲击深度的比较 | 第117-119页 |
5.3.4 三种电磁制动比较结果 | 第119页 |
5.4 本章小结 | 第119-120页 |
第六章 结论与创新 | 第120-123页 |
6.1 结论 | 第120-122页 |
6.1.1 在 FC-Mold 金属液流场物理模拟研究方面 | 第120-121页 |
6.1.2 在 FC-MoldII 金属液流场物理模拟研究方面 | 第121页 |
6.1.3 在异形磁场结晶器内金属液流场物理模拟研究方面 | 第121-122页 |
6.1.4 在 H 形磁场结晶器内金属液流场的分布与控制方面 | 第122页 |
6.2 创新点 | 第122-123页 |
参考文献 | 第123-142页 |
攻读博士学位期间研究成果 | 第142-144页 |
致谢 | 第144页 |