| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-26页 |
| 1.1 课题研究的背景及意义 | 第11-13页 |
| 1.2 MoS_2花状结构的形成机制 | 第13-15页 |
| 1.3 MoS_2的合成方法 | 第15-22页 |
| 1.4 MoS_2的应用 | 第22-25页 |
| 1.5 本课题研究的内容 | 第25-26页 |
| 第2章 实验材料及测试方法 | 第26-35页 |
| 2.1 实验药品及仪器设备 | 第26-27页 |
| 2.1.1 主要化学试剂 | 第26-27页 |
| 2.1.2 主要实验仪器及设备 | 第27页 |
| 2.2 实验方法 | 第27-29页 |
| 2.2.1 硅量子点合成 | 第27-29页 |
| 2.2.2 量子点辅助水热合成MoS_2 | 第29页 |
| 2.3 材料物性表征 | 第29-32页 |
| 2.3.1 透射电子显微镜(TEM) | 第29-30页 |
| 2.3.2 傅里叶变换红外光谱仪(FTIR) | 第30页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第30页 |
| 2.3.4 紫外-可见吸收光谱仪(UV-vis) | 第30页 |
| 2.3.5 荧光分光光度计(PL) | 第30-31页 |
| 2.3.6 扫描电子显微镜(SEM) | 第31页 |
| 2.3.7 比表面(BET)及孔径分析仪 | 第31页 |
| 2.3.8 激光显微拉曼光谱仪(Raman) | 第31页 |
| 2.3.9 X-射线衍射分析仪(XRD) | 第31-32页 |
| 2.4 溶液离子检测 | 第32页 |
| 2.5 细胞成像 | 第32-33页 |
| 2.6 材料电化学性能测试 | 第33-34页 |
| 2.6.1 电极的制备 | 第33页 |
| 2.6.2 交流阻抗法(EIS) | 第33页 |
| 2.6.3 循环伏安法(CV) | 第33-34页 |
| 2.6.4 恒电流充放电测试 | 第34页 |
| 2.7 光催化降解甲基橙 | 第34-35页 |
| 第3章 荧光硅量子点的绿色合成 | 第35-47页 |
| 3.1 前言 | 第35-36页 |
| 3.2 室温合成Si-QDs的光学性能分析 | 第36-38页 |
| 3.3 水热合成Si-QDs的表征及光学性能分析 | 第38-42页 |
| 3.3.1 投射电子显微镜分析(TEM) | 第38-39页 |
| 3.3.2 傅里叶变换红外光谱分析(FT-IR) | 第39页 |
| 3.3.3 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第39-40页 |
| 3.3.4 Si-QDs的光学性能分析 | 第40-42页 |
| 3.4 Si-QDs的应用 | 第42-46页 |
| 3.4.1 生物标记 | 第42-43页 |
| 3.4.2 金属离子探针 | 第43-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 碳量子点辅助水热合成MoS_2 | 第47-59页 |
| 4.1 引言 | 第47-48页 |
| 4.2 C-QDs/MoS_2的表征 | 第48-54页 |
| 4.2.1 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第48-49页 |
| 4.2.2 X射线衍射分析(XRD) | 第49-50页 |
| 4.2.3 透射电子显微镜分析(TEM)及能谱分析(EDX) | 第50-51页 |
| 4.2.4 拉曼光谱分析(Raman) | 第51-52页 |
| 4.2.5 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第52-53页 |
| 4.2.6 比表面及孔径分析(BET) | 第53-54页 |
| 4.3 电化学性能分析 | 第54-58页 |
| 4.3.1 循环伏安性能 | 第54-55页 |
| 4.3.2 充放电性能 | 第55-57页 |
| 4.3.3 交流阻抗性能 | 第57-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 硅量子点辅助水热合成MoS_2 | 第59-75页 |
| 5.1 引言 | 第59-60页 |
| 5.2 Si-QDs/MoS_2的物相组成与结构分析 | 第60-68页 |
| 5.2.1 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第60-61页 |
| 5.2.2 X射线衍射分析(XRD) | 第61-62页 |
| 5.2.3 透射电子显微镜分析(TEM) | 第62-63页 |
| 5.2.4 拉曼光谱分析(Raman) | 第63-64页 |
| 5.2.5 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第64-65页 |
| 5.2.6 比表面及孔径分析(BET) | 第65-66页 |
| 5.2.7 能带结构分析 | 第66-68页 |
| 5.3 光催化降解性能分析 | 第68-72页 |
| 5.3.1 不同催化剂降解性能分析 | 第68-70页 |
| 5.3.2 不同掺杂量的Si-QDs辅助合成的MoS_2催化性能分析 | 第70-72页 |
| 5.3.3 Si-QDs/MoS_2催化性能稳定性分析 | 第72页 |
| 5.4 光催化机制研究 | 第72-73页 |
| 5.5 本章小结 | 第73-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-84页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第84-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
