CoFe2O4和SnFe2O4薄膜阻变性能的研究
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| 1.1 引言 | 第12-18页 |
| 1.2 RRAM的性能评估和阻变机理 | 第18-23页 |
| 1.2.1 RRAM的性能评估参数 | 第18-19页 |
| 1.2.2 RRAM的阻变机理 | 第19-23页 |
| 1.3 RRAM的导电机制类型 | 第23-25页 |
| 1.3.1 欧姆导电机制 | 第23-24页 |
| 1.3.2 空间电荷限制电流效应 | 第24页 |
| 1.3.3 肖特基发射效应 | 第24-25页 |
| 1.3.4 普尔-法兰克发射效应 | 第25页 |
| 1.4 薄膜的制备方法 | 第25-28页 |
| 第二章 CFO和SFO薄膜阻变性能的研究现状 | 第28-39页 |
| 2.1 CFO薄膜阻变性能的研究 | 第29-33页 |
| 2.2 双层结构对阻变性能的优化 | 第33-37页 |
| 2.3 SFO薄膜作为阻变材料的潜力 | 第37页 |
| 2.4 课题研究意义和内容 | 第37-39页 |
| 2.4.1 研究意义 | 第37-38页 |
| 2.4.2 研究内容 | 第38-39页 |
| 第三章 实验仪器及方法 | 第39-43页 |
| 3.1 样品的制备 | 第39-41页 |
| 3.1.1 双层CFO薄膜样品的制备 | 第39-40页 |
| 3.1.2 SFO薄膜样品的制备 | 第40-41页 |
| 3.2 实验所需设备和主要化学试剂 | 第41页 |
| 3.2.1 实验所需设备 | 第41页 |
| 3.2.2 实验所需主要化学试剂 | 第41页 |
| 3.3 表征手段 | 第41-43页 |
| 第四章 CFO薄膜阻变性能的研究 | 第43-58页 |
| 4.1 CFO薄膜阻变性能的研究 | 第43-49页 |
| 4.1.1 CFO薄膜的XRD和SEM表征 | 第43-45页 |
| 4.1.2 CFO薄膜的电学性能 | 第45-47页 |
| 4.1.3 CFO薄膜的数据保持时间 | 第47-48页 |
| 4.1.4 小结 | 第48-49页 |
| 4.2 双层结构CFO薄膜阻变性能的研究 | 第49-58页 |
| 4.2.1 双层CFO薄膜的XRD和AFM表征 | 第49-51页 |
| 4.2.2 双层CFO薄膜的电学性能 | 第51-56页 |
| 4.2.3 双层CFO薄膜的阻变机理 | 第56-57页 |
| 4.2.4 小结 | 第57-58页 |
| 第五章 SFO薄膜阻变性能的研究 | 第58-67页 |
| 5.1 SFO薄膜的XRD、SEM和XPS表征 | 第58-60页 |
| 5.2 SFO薄膜的电学性能 | 第60-64页 |
| 5.3 SFO薄膜的导电机制 | 第64-66页 |
| 5.4 小结 | 第66-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第74-75页 |
| 作者在攻读硕士学位期间所参与的项目 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
