| 摘要 | 第13-16页 |
| ABSTRACT | 第16-19页 |
| 第1章 绪论 | 第20-40页 |
| 1.1 立方氮化硼单晶合成的发展概况 | 第20-22页 |
| 1.2 高温高压触媒法合成立方氮化硼单晶催化机理的研究 | 第22-29页 |
| 1.2.1 基本原理 | 第22-23页 |
| 1.2.2 高温高压立方氮化硼合成中触媒催化作用的研究 | 第23-25页 |
| 1.2.3 立方氮化硼单晶合成用触媒的研究 | 第25-27页 |
| 1.2.4 立方氮化硼单晶合成工艺的研究 | 第27-29页 |
| 1.3 触媒层结构与单晶催化机理相关性研究 | 第29-33页 |
| 1.3.1 立方氮化硼触媒层成份的研究 | 第31-32页 |
| 1.3.2 触媒层催化作用的研究 | 第32-33页 |
| 1.4 高温高压合成立方氮化硼的理论计算研究 | 第33-36页 |
| 1.4.1 触媒催化作用的热力学研究 | 第33-34页 |
| 1.4.2 触媒催化作用下立方氮化硼单晶的形核理论研究 | 第34-36页 |
| 1.4.3 催化机理的模拟计算研究 | 第36页 |
| 1.5 存在的主要问题 | 第36-37页 |
| 1.6 本文主要研究内容 | 第37-40页 |
| 第2章 实验方法与理论计算 | 第40-52页 |
| 2.1 高温高压触媒法合成立方氮化硼单晶实验 | 第40-43页 |
| 2.1.1 主要原材料及合成块的组装 | 第40-41页 |
| 2.1.2 高温高压合成实验 | 第41-43页 |
| 2.2 立方氮化硼触媒层物相结构的表征 | 第43-44页 |
| 2.2.1 合成块断口形貌及单晶的SEM分析 | 第43页 |
| 2.2.2 立方氮化硼触媒层物相结构的XRD分析 | 第43页 |
| 2.2.3 立方氮化硼/触媒层界面的TEM分析 | 第43页 |
| 2.2.4 立方氮化硼触媒层物相结构的HRTEM分析 | 第43-44页 |
| 2.2.5 立方氮化硼晶面的AFM分析 | 第44页 |
| 2.3 立方氮化硼/触媒层界面电子结构的表征 | 第44-47页 |
| 2.3.1 立方氮化硼/触媒层界面的XPS分析 | 第44页 |
| 2.3.2 立方氮化硼/触媒层界面的AES分析 | 第44-45页 |
| 2.3.3 立方氮化硼触媒层的EELS分析 | 第45-46页 |
| 2.3.4 立方氮化硼触媒层的Raman分析 | 第46-47页 |
| 2.4 立方氮化硼合成的热力学计算 | 第47-48页 |
| 2.5 触媒催化作用下立方氮化硼形核及生长理论分析 | 第48-52页 |
| 2.5.1 临界晶核半径的计算 | 第48-50页 |
| 2.5.2 临界形核功的计算 | 第50页 |
| 2.5.3 晶体生长速度的计算 | 第50-52页 |
| 第3章 立方氮化硼界面形貌及触媒微结构表征 | 第52-66页 |
| 3.1 立方氮化硼触媒层的组织形貌 | 第52-57页 |
| 3.1.1 锂基触媒合成的立方氮化硼单晶 | 第52-53页 |
| 3.1.2 立方氮化硼/触媒层界面的SEM形貌 | 第53-57页 |
| 3.2 立方氮化硼/触媒层界面物相结构表征 | 第57-63页 |
| 3.2.1 立方氮化硼/触媒层界面物相结构的XRD分析 | 第57-59页 |
| 3.2.2 立方氮化硼/触媒层界面物相结构的TEM分析 | 第59-61页 |
| 3.2.3 触媒层微结构的HRTEM分析 | 第61-63页 |
| 3.3 立方氮化硼生长B、N来源的分析 | 第63-65页 |
| 3.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 第4章 立方氮化硼/触媒层界面电子结构表征 | 第66-92页 |
| 4.1 立方氮化硼/触媒层界面的Raman分析 | 第66-70页 |
| 4.2 立方氮化硼/触媒层界面的AES分析 | 第70-75页 |
| 4.2.1 立方氮化硼触媒层的AES谱 | 第70-71页 |
| 4.2.2 立方氮化硼/触媒层界面的B、N原子的AES谱 | 第71-75页 |
| 4.3 触媒层B、N电子结构的XPS分析 | 第75-87页 |
| 4.3.1 六方氮化硼和立方氮化硼的XPS谱图 | 第76-78页 |
| 4.3.2 立方氮化硼/触媒层界面电子结构的XPS分析 | 第78-81页 |
| 4.3.3 立方氮化硼/触媒层界面sp~2及sp~3的含量分析 | 第81-83页 |
| 4.3.4 立方氮化硼触媒层元素化学态分析 | 第83-87页 |
| 4.4 立方氮化硼/触媒层界面的EELS分析 | 第87-91页 |
| 4.5 本章小结 | 第91-92页 |
| 第5章 高温高压合成立方氮化硼的热力学分析 | 第92-108页 |
| 5.1 高温高压条件下Gibbs自由能变化的关系式 | 第93-94页 |
| 5.2 自由能变化关系式中热力学参数的获得 | 第94-98页 |
| 5.2.1 △V_T的计算 | 第95-97页 |
| 5.2.2 △V_P的计算 | 第97-98页 |
| 5.3 立方氮化硼合成反应的热力学分析 | 第98-106页 |
| 5.3.1 生成Li_3BN_2反应的热力学分析 | 第98-101页 |
| 5.3.2 Li_3BN_2→cBN+Li_3N反应的热力学分析 | 第101-104页 |
| 5.3.3 hBN→cBN反应的热力学分析 | 第104-106页 |
| 5.4 立方氮化硼合成的热力学讨论 | 第106页 |
| 5.5 本章小结 | 第106-108页 |
| 第6章 触媒催化作用下立方氮化硼界面及生长动力学分析 | 第108-120页 |
| 6.1 立方氮化硼晶体界面的AFM分析 | 第108-112页 |
| 6.2 立方氮化硼生长动力学研究 | 第112-118页 |
| 6.2.1 临界晶核半径的计算 | 第112-115页 |
| 6.2.2 临界形核功的计算 | 第115-116页 |
| 6.2.3 立方氮化硼晶体生长速度的计算 | 第116-118页 |
| 6.3 本章小结 | 第118-120页 |
| 第7章 立方氮化硼的高温高压催化机理 | 第120-132页 |
| 7.1 高温高压下立方氮化硼单晶形成的讨论 | 第121-129页 |
| 7.1.1 触媒层各物相结构相关性的讨论 | 第121-122页 |
| 7.1.2 触媒催化条件下立方氮化硼形核机理 | 第122-123页 |
| 7.1.3 B、N原子在触媒层中的扩散过程 | 第123-125页 |
| 7.1.4 立方氮化硼界面生长机理 | 第125-129页 |
| 7.2 本文对高温高压立方氮化硼催化机理研究的局限性 | 第129页 |
| 7.3 本章小结 | 第129-132页 |
| 第8章 结论 | 第132-134页 |
| 参考文献 | 第134-150页 |
| 致谢 | 第150-152页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第152-154页 |
| 攻读博士学位期间的科研工作及获奖情况 | 第154-155页 |
| 附件 | 第155-162页 |
| 附表 | 第162页 |
