微型表面电极离子阱加热率的测量

致谢	第4-6页
摘要	第6-7页
Abstract	第7页
第一章 引言	第12-18页
1.1 经典计算机和量子计算机的发展	第12-13页
1.2 离子阱技术简介	第13-15页
1.3 反常加热简介	第15-17页
1.4 本文的结构和主要内容	第17-18页
第二章 离子阱基本理论和激光冷却	第18-36页
2.1 基于离子阱系统的基本理论	第18-27页
2.1.1 离子的囚禁理论	第18-23页
2.1.2 微型表面电极离子阱	第23-27页
2.2 离子与激光的相互作用和激光冷却	第27-36页
2.2.1 离子的哈密顿量	第27-30页
2.2.2 Doppler冷却	第30-36页
第三章 实验系统	第36-48页
3.1 微型表面电极离子阱和真空系统	第36-38页
3.2 直流囚禁场与高压射频囚禁场	第38-41页
3.3 激光系统	第41-43页
3.4 荧光探测系统和计算机控制系统	第43-48页
第四章 离子加热率的测量	第48-56页
4.1 离子加热率测量原理	第48-49页
4.2 离子加热率的测量	第49-54页
4.3 射频囚禁场和囚禁位置对加热率的影响	第54-56页
第五章 热传导的模拟	第56-62页
5.1 模型构造	第56-59页
5.2 周期规律	第59-60页
5.3 频谱分析	第60-62页
第六章 总结和展望	第62-64页
参考文献	第64-72页
附录 ~(40)Ca~+能级结构图	第72-73页
作者简介	第73-74页
发表文章目录	第74页