| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 面向等离子体材料及其研究现状 | 第9-12页 |
| 1.1.1 聚变能和面向等离子体材料 | 第9-11页 |
| 1.1.2 面向等离子体材料的研究进展 | 第11-12页 |
| 1.1.3 面向等离子体材料的意义 | 第12页 |
| 1.2 钨基材料作为面向等离子体材料的研究进展 | 第12-15页 |
| 1.2.1 钨材料作为面向等离子体材料的优越性 | 第12-13页 |
| 1.2.2 钨材料在研究过程中的损伤类型及及其机理 | 第13-15页 |
| 1.3 钨材料的损伤对其服役寿命的影响 | 第15-16页 |
| 1.3.1 钨材料对聚变装置稳定性的影响 | 第15页 |
| 1.3.2 提高钨材料使用寿命对聚变装置的意义 | 第15-16页 |
| 1.4 课题研究的主要内容 | 第16-17页 |
| 第2章 样品制备工艺与测试技术 | 第17-23页 |
| 2.1 钨样品的制备方法 | 第17-19页 |
| 2.1.1 钨样品的制备 | 第17页 |
| 2.1.2 钨样品的抛光工艺 | 第17-19页 |
| 2.2 测试方法与表征 | 第19-23页 |
| 2.2.1 材料形貌测试与表征（SEM） | 第19页 |
| 2.2.2 材料厚度损失测试与表征（台阶仪） | 第19-20页 |
| 2.2.3 粒子谱线强度测试与表征（AES） | 第20页 |
| 2.2.4 钨样品温度的测量（红外测温仪） | 第20-21页 |
| 2.2.5 材料表面轮廓测试及表征（AFM） | 第21-23页 |
| 第3章 等离子体辐照设备的搭建以及辐照条件的调试 | 第23-33页 |
| 3.1 引言 | 第23-24页 |
| 3.2 ECR微波回旋共振设备的改造 | 第24-31页 |
| 3.2.1 ECR微波回旋设备简介 | 第24页 |
| 3.2.2 样品台的改造 | 第24-27页 |
| 3.2.3 磁场的标定 | 第27-29页 |
| 3.2.4 偏压源接入对束流密度的关系标定 | 第29-31页 |
| 3.3 本章小结 | 第31-33页 |
| 第4章 辐照条件对钨材料表面改变的影响 | 第33-67页 |
| 4.1 引言 | 第33-34页 |
| 4.2 实验过程与参数的选定 | 第34-40页 |
| 4.2.1 实验过程和实验方案 | 第34页 |
| 4.2.2 实验参数的选定和测试数据的验证 | 第34-40页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第40-65页 |
| 4.3.1 ECR等离子体辐照能量（偏压）对材料表面改变的影响 | 第40-43页 |
| 4.3.2 ECR等离子体束流密度和辐照剂量对材料表面改变的影响 | 第43-44页 |
| 4.3.3 ECR等离子体成分对材料表面改变的影响 | 第44-53页 |
| 4.3.4 不同ECR等离子体辐照对材料表面形貌的影响 | 第53-55页 |
| 4.3.5 不同ECR等离子体辐照条件对粒子谱线强度的影响 | 第55-61页 |
| 4.3.6 高能Ar离子束辐照对表面形貌的影响 | 第61-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-67页 |
| 结论与展望 | 第67-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 攻读硕士学位期间所获得学术成果 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
