| 摘要 | 第10-12页 |
| Abstract | 第12-13页 |
| 符号说明 | 第14-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-31页 |
| 1.1 研究背景 | 第15页 |
| 1.2 多铁性材料简介及研究历史 | 第15-21页 |
| 1.2.1 多铁性材料和磁电耦合效应 | 第15-16页 |
| 1.2.2 多铁性磁电复合材料研究进展 | 第16-17页 |
| 1.2.3 多铁异质结中的磁电耦合效应 | 第17-19页 |
| 1.2.4 多铁异质结中电驱动的磁化翻转 | 第19-21页 |
| 1.3 微波电磁理论和多铁异质结材料在微波器件中的应用 | 第21-26页 |
| 1.3.1 动态磁化过程及复磁导率 | 第21-22页 |
| 1.3.2 铁磁共振 | 第22-23页 |
| 1.3.3 磁性薄膜的截止频率与磁致伸缩材料 | 第23-24页 |
| 1.3.4 多铁异质结在微波方面的应用研究进展 | 第24-26页 |
| 1.4 多铁性磁电材料应用于存储技术的研究现状 | 第26-29页 |
| 1.4.1 "电写磁读"多铁性磁电存储器 | 第26-27页 |
| 1.4.2 多铁性磁电多态存储器 | 第27-29页 |
| 1.4.3 反铁磁夹层对铁磁/铁电多铁异质结的影响 | 第29页 |
| 1.5 本论文的选题意义 | 第29-31页 |
| 第2章 样品制备与测量方法简介 | 第31-37页 |
| 2.1 薄膜样品的制备 | 第31-33页 |
| 2.1.1 薄膜制备方法概述 | 第31页 |
| 2.1.2 磁控溅射 | 第31-32页 |
| 2.1.3 脉冲激光沉积技术(PLD) | 第32-33页 |
| 2.2 薄膜样品的形貌表征 | 第33-34页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第33页 |
| 2.2.2 原子力显微镜(AFM) | 第33-34页 |
| 2.3 样品的测量研究 | 第34-37页 |
| 2.3.1 薄膜厚度的测量 | 第34页 |
| 2.3.2 样品的磁性测量 | 第34-35页 |
| 2.3.3 样品的高频磁电性能研究 | 第35-37页 |
| 2.3.3.1 测量仪器与测量方法 | 第35-36页 |
| 2.3.3.2 高频磁极限关系理论 | 第36-37页 |
| 第3章 FeCo/PMN-PT多铁异质结的制备和磁电性能研究 | 第37-49页 |
| 3.1 引言 | 第37-38页 |
| 3.2 多铁异质结的制备和磁电性能的研究 | 第38-47页 |
| 3.2.1 FeCo/PMN-PT多铁异质结的制备和磁性研究 | 第38-44页 |
| 3.2.2 FeCo/PMN-PT多铁异质结的高频磁电性能 | 第44-47页 |
| 3.3 本章小结 | 第47-49页 |
| 第4章 FeCo/Ta纳米磁性多层膜中四态磁存储异质结构 | 第49-60页 |
| 4.1 引言 | 第49-50页 |
| 4.2 FeCo/PMN-PT多铁异质结中的四态存储研究 | 第50-58页 |
| 4.2.1 四态存储研究的发现及现状 | 第50页 |
| 4.2.2 (FeCo/Ta)_n纳米多层膜制备和性能研究 | 第50-58页 |
| 4.3 本章小结 | 第58-60页 |
| 第5章 反铁磁插层对多铁异质结磁电性能影响的研究 | 第60-69页 |
| 5.1 引言 | 第60-61页 |
| 5.2 FeCo/FeMn/Ta/PMN-PT多铁异质结的磁电性能研究 | 第61-67页 |
| 5.2.1 FeCo/FeMn/Ta/PMN-PT多铁异质结的耦合行为 | 第61-64页 |
| 5.2.2 FeGa/PMN-PT多铁异质结的制备和磁性研究 | 第64-66页 |
| 5.2.3 FeMn/Ta插层对FeGa/PMN-PT异质结构耦合行为的影响 | 第66-67页 |
| 5.3 本章小结 | 第67-69页 |
| 第6章 论文总结与展望 | 第69-71页 |
| 6.1 论文成果和结论 | 第69页 |
| 6.2 工作展望和规划 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第80-81页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第81页 |
